네, CD uniformity와 패턴 shift는 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 이슈입니다. 이들은 반도체 칩의 품질과 성능에 직접적으로 영향을 미치기 때문에 매우 신중하게 관리되어야 합니다. 따라서 p기술팀에서도 이러한 이슈를 핵심적으로 다루며, 이를 해결하기 위한 다양한 기술과 전문성을 갖추고 있습니다.

핵심이슈라기보단 고질적인 문제로 해결하기 어려운 난제라 보시는게 맞습니다.

패턴 shift는 어느정도 포토에서 관여할수있고 cd uniformity는 보통 에치에서봅니다. 계측 후에 패턴간격을 측정했을때 uniformity가 다르면 에치쪽에서 먼저 trace받게 되고 그 후에 trace를 하다보면 포토까지올라올순있습니다.

안녕하세요
해당 파라메타를 CPK로 잡아서 관리하는 것이지요
이상채택바랍니다

안녕하세요.

다양한 이슈들 중 포함이 되어있고, 추가적으로 defocus 현상도 있습니다.

도움이 되셨다면 채택 부탁드립니다.