Q. 반도체 clean 공정
반도체 clean 공정 질문드립니다.
1. clean 과정은 RCA Cleaning으로 진행된다고 알고있습니다. 모든 clean step은 RCA Cleaning 기법으로만 진행되나요?
2. 예를 들어 photo -> etch -> clean 순서대로 진행된다고 할 때, clean step에서는 SC1 -> QDR -> SC2 -> QDR -> DFH -> QDR 이 모든 과정이 진행되는 것인가요? 아니면 굳이 필요없는 단계는 생략하나요?
감사합니다.
2. 클린 스텝에서 SC1, QDR, SC2, DFH 등의 모든 과정이 항상 진행되는 것은 아닙니다. 각 단계의 필요성은 공정의 상태와 요구 사항에 따라 달라지며, 불필요한 단계는 생략될 수 있습니다. 공정 최적화를 위해 필요한 클린 단계만 선택적으로 수행하는 경우가 많습니다.
2024.12.19