Q. 산학장학생 선발
안녕하십니까
자대 반도체 공정 분야 대학원 진학을 앞둔 4학년 학부생입니다.
산학장학생 관련하여 알아보고 있는데
SPK에서는 자체적으로 산학장학생을 홍보한다는데 이걸 보면 학교별로 티오가 있는거 같기도 하고
또 사람들 말 들어보면 공채처럼 뽑는다고해서...
LG전자나 LG디스플레이 같은 경우에는 공채처럼 산학장학생을 뽑는걸 봤는데
삼성이나 SK하이닉스 같은 경우에는 자료가 없네요....
산학장학생 제도가 계약학과랑 동일한건가요? 아니면 학교, 연구실 별로 따로 티오를 두고 선발하는건가요?
Q. 조언부탁드립니다
올해 2월에 졸업한 취준생입니다. 반도체 엔지니어를 희망하고 있고, 간단히 제 스펙을 말하자면
서울 상위권대학 물리학과(반도체 트랙이수)
학점 3.49/4.5
토익스피킹 IM3
전자전도연구실 학부연구생, 단기공정실습, 인터넷강의 교육 수료증정도 밖에 없습니다. 영어성적은 낮은거 알고 있습니다.
대학원은 작년에 고민했는데 학부연구생하면서 후순위로 밀려났었습니다.
서류합격이 한 건도 없어서 앞으로 방안을 고민하고 있는데
1. 영어성적올리고 중견기업이상 도전하기
2. 대학원가기
3.중소기업부터 취직하기
어떤게 가장 나을까요?
Q. RF power의 세기와 etch rate의 관계
안녕하세요. 반도체 산업군 취업을 희망하는 학생입니다.
etch 공정에 대해 공부하는 중인데요,
RF power의 세기가 증가하면 생성되는 플라즈마의 양이 증가해서 etch rate가 증가하는 것까지는 이해를 하였습니다.
1. 근데 RF power의 세기가 증가하면 etch uniformity는 어떻게 되나요? power의 세기는 uniformity와 관련이 없나요?
2. uniformity에 영향을 줄 수 있는 etch parameter에는 무엇이 있는지 알려주실 수 있나요?
2. RF power의 세기가 증가할 경우 이온이 더 강하게 내리쳐서 원치 않는 막질까지 physical etch 되어 etch의 profile이 더 안 좋게 나올 수도 있을까요?
감사합니다.