대학생 고민 · 모든 회사 / 모든 직무

Q. 포토 공정 ADI- CD 오차율 감소

SPTA에서 Photo, Etch를 직접 실습해보고 의문점이 있어서 질문하게 되었습니다.
Exposure time을 10초로 고정시킨 뒤에 Wafer 내의 Center die 기준에 대한 Top, Bottom, Left, Right die의 CD의 오차율을 측정한 결과 Top은 10%, Bottom은 7.41%, Left는 10.01%, Right는 4.71% 나오게 되었습니다.

그러면 Top, Bottom, Left, Right die의 CD 오차율을 줄이기 위해선 어떻게 해야하는지 상세하게 알려주시면 감사하겠습니다.