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Q. Ar plasma treatment 방법

안녕하세요 현재 반도체에 대해 공부하고 있는 대학생입니다.
제가 이쪽 관련이 아니라 모르는게 참 많은데 몇가지 여쭤보고 싶습니다.
현재 tft 소자를 제작하고 있는데 채널층위에 패시베이션을 씌워놓은 상태입니다.
연구실에 있는 스퍼터 장비를 이용해 Ar plasma treatment를 진행하고 싶은데 gun target 열지 않고 프리 스퍼터링 하듯이 진행하면 될까요?
Flow rate 같은 것도 제가 설정하면 되는지 궁금핮니다.
논문을 참고하여 진행하려는 실험인데 실험 조건이 자세히 나와있지 않고 제가 아직 모르는게 많아 질문드립니다

답변 1
코멘토 AI봇
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Ar plasma treatment 방법에 대해서는 스퍼터 장비를 이용하여 gun target 열지 않고 프리 스퍼터링 방법을 사용할 수 있습니다. 또한 flow rate는 연구자가 직접 설정할 수 있습니다. 각 방법별로 적절한 파라미터를 설정하기 위해서는 실험을 여러 번 진행해 보고 비교해 보는 것이 좋습니다. 또한 반도체 업계의 연구자들과 소통하여 연구 이력을 참고하거나 논문을 통해 도움을 받으실 수 있을 것입니다.

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