Q. ASML 코리아 TSE 직무 EUV 장비 모듈 질문
안녕하세요
ASML 코리아 CS 최종면접을 앞두고 있는 학부생입니다.
제가 CS 제네럴리스트로서 Fab과 장비 유지보수 실무역량을 키운 후에
스페셜리스트로 성장하여 TSE illumination 모듈 전문가로써 성장하고 싶다는 내용을 어필하고 싶습니다.
제가 준비한 내용들은 laser의 기본 형성 과정, 브래그 회절과 다층코팅 반사막이 n(high)>(low)로 변경되면서
거리와 경계면에서 발생하는 위상차로 인한 다층코팅반사막의 설계, 파장 짧아짐에 따라 fringe가 세타가 좁은 영역에서 나타나는 회절성감소 등으로 이야기를 풀어보고자 합니다.(물론, 인성질문이 많을 것 같기는 합니다만..)
질문은 EUV 장비에서
1) 일루미네이션&소스 system이 거울, laser 발생 소스부, 패턴정보 담긴 마스크를 포함하는 것인가요?
2) 1)모듈에서 중요한 이슈 혹은 위에서 제가 준비한 내용들이 기초가 될 수 있는지 궁금합니다.
3) 1차 면접때 "브래그 거울" 이라고 말씀을 드렸는데, 면접관님께서 해당 단어는 처음 들어본다고 하셔서 제가 잘못
알았나 생각이 듭니다. 브래그 회절은 쓰여도 브래그 거울이라고 현업에서는 사용되지 않는 단어인것이죠?
4) CO2 laser 모듈도 있는 것으로 압니다. 일루미네이션 모듈과 laser 부분이 겹치지는 않나요?
5) Vacuum 모듈에서는 펌프와 진공도를 관리하는 것인가요?
파셴커브 혹은 mfp 관련 내용이 장점이 될 수 있는지 궁금합니다.
읽어주셔서 감사합니다!
하나에 대한 답변 혹은 아무런 조언이든 감사히 받겠습니다.