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Q. photo 공정 시 PR resiude문제

안녕하세요
photo-descum-E beam-lift off 순서로 공정을 진행했습니다.
이전에는 그러지 않았는데 더 두꺼운 점도높은 PR을 사용해서 그런지 lift off후 PR residue가 심하게 남았습니다.
그리고 descum 공정이 신규로 추가된 공정과정인데 이 과정에서 고온에서 플라즈마로 진행되다보니 안그래도 두꺼운 PR인데 고온공정까지 영향을 줘서residue가 생긴것이라고 판단할 수 있을까요 ?

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2024.11.03

답변 2
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PR 잔여물 문제는 여러 요인에 의해 발생할 수 있습니다. 사용한 포토레지스트(PR)의 두께와 성질, 공정 조건, 특히 고온에서의 플라즈마 처리 등이 영향을 미칠 수 있습니다. 고온에서의 플라즈마 공정은 PR의 물리적 성질을 변화시켜 잔여물이 남을 가능성을 높일 수 있습니다.

또한, PR의 두께가 두꺼울 경우, 리프트 오프 과정에서 잔여물이 더 많이 남을 수 있습니다. 따라서, PR의 두께와 공정 조건을 조정하거나, descum 공정의 파라미터를 최적화하는 것이 PR 잔여물 문제를 해결하는 데 도움이 될 수 있습니다.

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2024.11.03

니
니꿈은뭐니
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두꺼워서라기보단 lift-off라 nega pr자체가 박리가 posi대비 상대적으로 어렵습니다. 언급하신데로 고온공정까지 진행된다면 박리는 더더욱 어려워지는게 사실입니다. 점도와는 크게 관련성은 없습니다.

2024.11.04

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