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Q. photo 공정 시 PR resiude문제

안녕하세요
photo-descum-E beam-lift off 순서로 공정을 진행했습니다.
이전에는 그러지 않았는데 더 두꺼운 점도높은 PR을 사용해서 그런지 lift off후 PR residue가 심하게 남았습니다.
그리고 descum 공정이 신규로 추가된 공정과정인데 이 과정에서 고온에서 플라즈마로 진행되다보니 안그래도 두꺼운 PR인데 고온공정까지 영향을 줘서residue가 생긴것이라고 판단할 수 있을까요 ?