대학생 고민 · 모든 회사 / 모든 직무

Q. wafer cleaning (metal contaminant일 때)

contaminant가 metal일 때, wet cleaninig에서 RCA (SC-1&SC-2)를 사용한다고 하는데, 사실 SC-1에서는 알칼리 금속이나 heavy metal은 거의 제거 안되고 준금속만 제거되며, SC-2에서 알칼리 금속과 같은 heavy metal이 제거된다고 하더라구요. 왜 SC-1에서는 알칼리 금속과 같은 금속이 제거가 안되나요? 왜 어려울까요ㅠ