대학생 고민 · 삼성디스플레이 / 제품설계

Q. 디스플레이 노광 관련질문입니다.

디스플레이 노광 관련 공부중 궁금한것기 있어 질문드립니다.

1. 디스플레이도 반도체처럼 pr coating을 할텐데 반도체는 wafer라 spin coating이 되지만 디스플레이의 경우 glass이고 크기때문에 spin coating이 힘들것 같은데 현업에서는 어떤 방식으로 하나요? 대외비면 말구요 ㅎㅎ

2. 디스플레이 패턴은 제가알기로 마이크로 단위로 알고있습니다. 따라서 광원의 경우 파장이 어느정도 대를 사용하나요?

답변 6
코멘토 AI봇
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1. 디스플레이 노광은 기본적으로 스크린 프린팅 방식이나 스프레이 방식을 사용하여 수행됩니다. 스크린 프린팅 방식은 일반적으로 디스플레이 제작 과정에서 사용되며, 디스플레이 제작 과정에서 사용하는 스프레이 방식은 소규모 디스플레이에 주로 사용됩니다.

2. 디스플레이 패턴은 다양한 광원이 사용됩니다. 가장 많이 사용되는 광원은 백색 LED나 백열 LED이며, 이들의 파장은 일반적으로 400nm ~ 700nm 사이의 영역에서 사용됩니다.

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고즐
코사장 ∙ 채택률 85%

1. 디스플레이의 경우 반도체와는 달리 원료로 유리를 사용하므로, spin coating 대신 roll-to-roll 코팅 방식을 사용하는 경우가 많습니다. 이 방식은 롤러와 같은 회전하는 원통형 표면에 코팅액을 바르면서 제조하는 방식으로, 대량 생산에 용이합니다. 또한, 최근에는 인쇄공정 기술을 이용한 저비용 생산 방식도 연구되고 있습니다.

2. 디스플레이 패턴의 경우, 일반적으로 마이크로/나노 미터 단위로 제작됩니다. 광원의 경우에는 패턴 크기와 맞게 파장이 선택됩니다. 일반적으로 디스플레이 패턴 제작에는 365nm ~ 436nm 근처의 파장을 사용합니다. 이외에도 UV, DUV, VUV 광원 등을 사용하기도 합니다.


F
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코부사장 ∙ 채택률 69%

안녕하세요 멘티님!!
디스플레이 제조에서는 대부분의 경우 glass substrate 위에 TFT(transistor) 등의 패턴을 형성하기 위해 photolithography 공정을 사용합니다. 이 공정에서는 photoresist라는 민감한 물질을 glass 위에 spin coating 한 후 노광기를 사용하여 노광을 진행합니다. 이때 사용되는 photoresist와 노광 기술은 반도체 제조와 유사하며, spin coating은 반도체 제조에서와 마찬가지로 사용됩니다. 디스플레이 패널의 크기가 크기 때문에, 공정의 일부 단계에서는 glass를 분할하여 작업할 수도 있습니다.

디스플레이 패턴의 크기는 매우 작습니다. 대부분의 경우, 디스플레이 패널 내의 한 화소(pixel)의 크기가 몇 마이크로미터 정도이며, 이 화소 안에는 RGB색상 필터와 TFT 등이 배치됩니다. 이에 따라 노광 공정에서 사용되는 광원의 파장은 365nm에서 436nm 범위 내에서 선택됩니다. 이 범위의 파장은 UV 또는 blue light LED를 사용하여 얻어집니다.


니꿈은뭐니
코사장 ∙ 채택률 85%

1. Slit 코팅 방식으로 진행합니다.
2. I-line 파장대가 주력입니다


정크푸드
코과장 ∙ 채택률 60% ∙
회사 산업
일치

1. 작은사이즈에서는 스핀을 했는데요 커지면서 스핀을 못하죠 세메스나 TEL등 장비업체 홈페이지 보시면 6세대이상 장비 소개가 있을텐데 그런부분 보시면 될거같아요

2. 이건 설비사양이라 진짜 대외비네요 ㅎ


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합격부적
코이사 ∙ 채택률 78% ∙
회사 산업
일치

안녕하세요

노광에 대해서 굉장히 깊게 공부중이신 것 같습니다.

디스플레이에서 사용하는 노광기는 언급하신대로 스핀이 아니라 정해진 포인트에 다수를 떨어뜨린 뒤 퍼트리는 식으로 대응하고 있어요.

차후에는 프린트처럼 한방에 되는 걸 개발중인 것으로 알고어요.

마지막까지 준비 잘 하셔서 건승 하시길 바랍니다.


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