Q. Dual damascene 공정에서 etch stop layer
Dual damascene 공정에서 ESL가 AlOx/ODC/AlOx or AlN 3개의 층으로 구성되어 있다고 하는데 왜 그런지 아시나요? 그리고 원래 etch stop layer로 SiN 나 SiCN가 많이 사용되었는데 AlOx로 대체된 이유는 무엇인가요?
Dual damascene 공정에서 ESL가 AlOx/ODC/AlOx or AlN 3개의 층으로 구성되어 있다고 하는데 왜 그런지 아시나요? 그리고 원래 etch stop layer로 SiN 나 SiCN가 많이 사용되었는데 AlOx로 대체된 이유는 무엇인가요?
2022.11.09