대학생 고민 · 삼성전자 / 공정기술

Q. EXPOSURE TIME, DEVELOP TIME, PROXIMITY GAP에 따른 ADI CD 변화

안녕하세요. 포토 공정 관련해서 궁금한 사항이 있어서 질문을 올리게 되었습니다.
포토 공정을 진행하면서 RUNSHEET에서 EXPOSURE TIME, DEVELOP TIME, PROXIMITY GAP의 변화에 따라 CENTER, TOP, BOTTOM,LEFT, RIGHT DIE들의 ADI CD 변화를 해석하고자 합니다. 먼저 ADI CD 변화에 가장 영향을 미치는 공정 변수를 파악하고자 할 때, 양품의 ADI CD 대비 각 위치 다이들의 ADI CD 오차 변화율이 가장 큰 것이 ADI CD에 가장 영향을 미치는 공정 변수로 파악해도 될까요? 또한, 양품 ADI CD에서 오차 범위를 ±5%로 할 때 EXPOSURE TIME이 오차 범위 안에 가장 많이 들어왔다고 한다면 EXPOSURE TIME을 주요 공정변수로 잡아도 될까요?