공정별로 다른데
포토 기준으로 euv를 이용하여 선폭을 줄이면
웨이퍼당 칩 생산량이 늘어나서 수율이 증가하는 거죠

구체적인 예 라는게 어느정도까지 구체적인 것을 원하시는지 모르겠네요 ㅠㅠ 일단 수율향상이라는 것에 대해서 막연하게 생각하실 필요가 없습니다. 24시간 돌아가는 장비가 고장나서 10시간 밖에 못돌아가고 있습니다. 이러한 장비를 고쳐서 다시 24시간 돌아갈 수 있게 만들면 이것도 수율향상이라고 할 수 있고, 설비 점검에 필요한 시간을 최소화에서 가동률을 높이는 것도 수율향상이라고 볼 수 잇습니다. 데이터를 통해 공정 이상점을 발견하고 빠르게 조치하는 것 역시 수율을 상승키는 것입니다. 즉, 엔지니어가 하는 모든 업무들이 수율 및 품질 향상에 직접적 간접적으로 기여하고 있다고 보시면 되고, 현업에서 일어나는 구체적인 예시는 보안사항이기도 하고 멘티님께서 모르시는게 당연한 부분입니다. 몰라도 전혀 문제 없는 부분이기 때문에 반도체 강의나 교과서에 나와있는 일반적인 수준에서만 알고 있기만 해도 매우 우수한 평가를 받을 수 있을 겁니다. 그리고 직무면접에서도 구체적인 것보다는 큰 틀에서 물어보기 때문에 걱정 안하셔도 될 것 같습니다,

항상 응원합니다!! 감사합니다.

수율향상은 정말 다양한 예가 가능해서.... 그냥 간단하게 생각하시면 됩니다. 공정장비의 이슈로 인해 수율이 낮게나올수도있고 사람의 세팅 실수로 수율이 낮을수도있고 그런거라 생각하면됩니다. 하지만 내부의 구체적인 일들은 함부로 말할수가없고 지원자또한 그런부분들은 취업에 아무 연관이 없을듯합니다. 자기 역량 보여주기에만 집중하면 됩니다

파티클을 줄이기위해서 챔버로 웨이퍼가 진행하고나면 챔버 클린레시피가 돌아요. 그 레시피 개선을 통해 파티클을 감소시킬수있어요.

그리고 두께 유니포미티를 공정레시피 변화를 통해서 개선시키고 백업하는역할을 하구요.

디팩불량이 난경우 가혹레시피를 진행해서 원인을 찾고 설비조치를 요청하는 역할을해요.