면접 · 삼성전자 / 공정설계

Q. 포토 공정 변수 관련 면접 답변 준비 중 궁금한게 있습니다.

안녕하세요, 반도체 기업 직무 면접을 준비하다가 궁금한게 있습니다.
제가 포토 공정으로 패턴을 형성하는 실습을 했었는데, 메뉴얼대로 공정을 진행했을 때, 현상 후 패턴이 끊겨서 나오는 걸 확인할 수 있었어요. 그래서 어떤 공정 변수를 조절할까 하다 처음에는 PR이 고르게 도포가 되지 않았거나 너무 두껍게 도포가 되었다 생각해 spin coating 시간을 늘리게 되었습니다. 하지만 여전히 패턴이 끊겼고, 그 다음에는 노광 시간을 조금 더 늘렸더니 패턴이 제대로 형성이 되었어요
이 경험으로부터, 그럼 왜 spin coating 시간은 영향을 안줬을까에 대해 생각해봤는데, spin coating은 특정 시간이 지나면 두께가 saturation 된다고 알고 있습니다. 그렇기 때문에 영향을 주지 않았고, 노광 시간을 늘림으로써 PR이 조금 더 빛의 영향을 받아 패턴이 깔끔하게 나왔다고 생각했는데 이게 맞는 흐름인가요,,?
납득이 가는 도출인지 너무 궁금합니다. 도와주세요 ㅜ