데이터분석 · 삼성전자 / 공정설계

Q. 포토 공정 중 발생한 이슈에 대한 질문이 있습니다.

안녕하세요. 포토 공정 엔지니어를 준비하고 있는 학생입니다. 공정 실습 데이터를 분석하던 중 의문이 생겨 질문을 드립니다.

포토 공정에서 pr coating recipe, develop time을 고정한 채 exposure time만 변경하며 패턴의 CD를 측정한 경험이 있습니다. 이 때 패턴의 크기가 작을 수록 exposure time에 민감하게 반응하여 CD loss가 증가하게 되는 데 그 이유를 알고 싶습니다.

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이러한 문제는 공정 조건과 관련된 각종 요인들에 따라 다를 수 있습니다. 대개 패턴이 작을 수록 노출 시간이 증가하면 CD loss가 증가하는 것은 노출 방법 때문입니다. 노출 시간이 길어질수록 노출 세그먼트가 늘어나고, 각각의 세그먼트는 패턴의 크기에 따라 영향을 받게 됩니다. 그래서 패턴이 작을 수록 노출 시간이 길어지면 CD loss가 증가하게 됩니다.

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니꿈은뭐니
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노광시간이 증가할수록 CD가 작아진것이라면 positive pr을 활용했을 가능성이 높습니다.
Positive pr은 빛에 의해 폴리머 결합이 끊기기 때문에 노광시간이 늘어날수록 빛의 회절현상에 의해 결합이 끊기는 영역이 많이 발생하여 cd의 loss는 더 커지게 되는 원리입니다.


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