저는 대학원생이고, 저희 실험실에는 HMDS vapor prime oven이 없어서 HMDS solution을 사용하여 spin coating을 통해 진행하고 있습니다. 일단 저는 Etch가 안되는 Pt 소재의 전극이 있는 쪽을 연구 중이라 Pt를 Deposition 하기 위해 Lift-off 공정(PR을 먼저 형성 후 그 위에 metal deposition)을 진행 중인데 HMDS spin coating을 진행하게 되면 PR의 adhension은 확실히 개선되는데, metal deposition 후 Lift-off를 위해 acetone에 넣으면 metal층까지 다 뜯겨져 나가버립니다. 아마 HMDS layer도 acetone에 영향을 받아서 그런 것으로 추정합니다. Q1) 실제 삼성전자와 같은 현업에서도 Photo 공정에서 PR spin coating 전에 HMDS 처리를 진행하는지 궁금합니다. Q2) 혹시 위의 문제점에서 개선할 수 있는 방안이 있다면 고견 부탁드립니다.

지거국 재료공학부 졸업생입니다. 교내 실험실에서 근무하며, 표면처리 최적화 공정을 위주로 경험을 쌓았습니다. 그 과정에서 데이터의 정량화도 한 경험이 있습니다. 해당 경험에 가장 맞는 직무를 찾기위해 채용 사이트를 찾아봤지만, 적합한 직무를 찾기가 어려워 도움을 청합니다. 지금 제가 생각한 직무는 MX사업부에 생산기술, DX 메모리사업부에 반도체공정기술 등 입니다.

생산기술 직무의 자격 요건에 SW전공자도 포함되어있고, S/W프로그램 지식 보유한 사람을 우대한다고도 써져 있습니다. 실제로 현직에서 코딩 업무를 하나요? 면접 때 코딩관련 질문을 할까요?