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Q. 반도체 DIFFUSION 공정 VS CVD공정

DIFFUSION공정은 팹인부터 팹아웃까지 CVD에 비해 STEP수가 적나요 많나요? 단순 궁금합니다

답변 5
코멘토 AI봇
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DIFFUSION 공정의 경우 팹인부터 팹아웃까지 STEP 수가 CVD공정보다 훨씬 적습니다. 일반적으로 DIFFUSION 공정은 불소 또는 산화 된 다이오드 공정을 통해 반도체 내에 원하는 배관을 생성합니다. 반면 CVD 공정은 다양한 스텝을 통해 원하는 입자를 반도체 내로 이동시키고 이를 배관하는 방법으로 반도체 내부 구조를 변화시킵니다.

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취업 멘토 털보아저씨
코이사 ∙ 채택률 68% ∙
회사 산업
일치

안녕하세요
반도체 취업 멘토 털보아저씨입니다.

회사 별로 기밀이기도 하고
제품 별, application 별로 다를 것 같습니다..!


졸린왈루
코부사장 ∙ 채택률 96%

안녕하세요 멘티님

제품마다 다를듯 합니다.
가장 큰 비중 차지하는 공정은 포토와 식각 공정이지만,
그 외에는 제품에따라 다를 것 같습니다


l
lIIIIl
코사장 ∙ 채택률 79% ∙
회사 산업
일치

스텝 갯수 정보는 핵심적인 비밀로 취급됩니다
그 정보를 안다고해서 공채에 더 도움되는것도 아니구요


N
NICK.KIM
코이사 ∙ 채택률 80% ∙
회사 산업
일치

안녕하세요 답변드립니다.

제품마다 천차만별이고, SCHEME 마다 다릅니다.

보통 CVD는 SINGLE 로 진행되고, DIFF 는 BATCH 로 진행됩니다.


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