Q. 반도체 공정 질문
반도체 학부생인데 궁금한 점 질문드려요
1.대부분 포토 공정 실습에서 pr spin coating 하기전, HMDS를 도포할 때, vapor prime의 형태로 오븐에 하는걸로 알고 있는데
HMDS를 도포할 때, spin coating으로도 도포가 가능한가요? 실제로 이렇게 가능한지...
만약 가능하다면, 왜 대부분의 실습에서는 HMDS를 도포할 때 spin coating이 아닌, vapor prime형태로 oven에서 하는지 궁금합니다.
2. HMDS가 잘 도포 안 됐을 경우, pr 코팅이 잘 안 되잖아요?
근데 pr 코팅이 잘 된지 안 된지는 어느 단계에서 확인할 수 있는건가요?
보통 pr 코팅하고 나서 soft bake 실시해주고, 노광공정 - peb 이 순서인데 ,,
코팅이 잘 된지 안 된지도 모르고 계속 공정을 진행하는건가요..?
아직 모르는게 너무 많아서 질문드려요 ㅠㅠ
2. PR 코팅 전, HMDS를 도포하는 과정과 PR 코팅 후, soft bake 과정 모두 반드시 필요합니다. 그리고 PR 코팅이 잘 되었는지 확인하는 방법으로는 광학관찰(Optical Inspection)을 하는 것이 좋습니다. 또한 노광공정을 실시하기 전, 실험이 이루어지는 반도체 소재에 침투하는 농도 및 분포 상태를 확인하는 것도 반드시 필요합니다.
2023.03.14