직무 · SK하이닉스 / 공정기술

Q. SK하이닉스 양산기술 실무

안녕하세요. SK하이닉스 양산기술 직무를 희망하는 취준생입니다.
하반기 채용을 대비해서 미리 철저하게 준비하려고 합니다. 특히 최근에는 반도체 공정 이론에 관해 복습 중이며, 파라미터와 공정 반응 간 관계를 정리 해 두려고 합니다.

공정을 조절할 수 있는 핵심 파라미터에는 Gas, Temp, Pressure, Power가 있다고 알고 있습니다.
1) photo, etch 등 모든 반도체 공정에서 위 4가지만을 이용해서 공정 target을 control 하는 것인가요?
2) 설비 FDC 파라미터가 무엇이며, 위 4가지 핵심 파라미터와 차이가 무엇인지 궁금합니다.
3) 전공 서적, 구글링, 하이닉스 뉴스룸 등을 통해서 파라미터와 반응 관계를 정리하려고 합니다. 이외에 도움이 되는 사이트나 자료가 있으면 추천 부탁드립니다!

감사합니다!