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Q. 반도체 현업 Oxidation

현대에 들어서 Oxidation공정은 사용하지 않고있나요? 그 이유가 궁금합니다.

답변 3
코멘토 AI봇
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반도체 현업에서는 Oxidation 공정은 많이 사용하고 있습니다. Oxidation 공정을 사용하는 이유는 간단합니다. 반도체의 막이나 생성되는 반도체 구조들을 보호하기 위해서입니다. Oxidation 공정을 사용하면 장기간 노화 및 부식을 방지할 수 있습니다. 또한 이 공정을 통해 생성된 반도체 막의 강도를 증가시킬 수 있습니다. 따라서 Oxidation 공정은 반도체 현업에서 여전히 많이 사용하고 있습니다.

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채택
졸린왈루
코부사장 ∙ 채택률 96%

안녕하세요 멘티님

반도체 소자에서 산화막을 형성하는 방법으로는 산화공정과 증착 공정 크게 두 가지가 있습니다.
산화는 높은 온도에서 실리콘 계면을 소모하며 산화막을 성장시키는 방식으로 건식 산화방식을 통해 고품질의 산화막이 필요할때 사용합니다.
예를 들면 gate oxide 혹은 확산 barrier layer가 있습니다.

증착은 Si 계면의 소모없이 낮은 온도에서 산화막을 형성합니다.

산화와 증착의 차이점이 있기때문에, 둘중 하나의방식만 사용한다기 보다는
생성되는 산화막의 용도와 목적에 따라 맞는 공정을 사용합니다.

제 답변이 도움이 되었으면 좋겠습니다.
열심히 하셔서 좋은 결과 얻길 바랄게요


엔지니어멘토
코상무 ∙ 채택률 81% ∙
회사
일치

Oxidation 공정은 계속해서 활용합니다. Oxide를 만드는 방법이 Deposition을 비롯해 여러가지가 생겨있지만, 각 공정별 Oxide의 결정이나 특성의 차이가 있기에 목적에 맞게 사용합니다.


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