회사/산업 · 삼성전자 / 공정설계
Q. ACI CD 질문입니다.
1. Etch 후 ACI CD 측정시 isotropic 하면 PR CD가 더 작아지나요? 커지나요?
2. Anisotropic 할때보다 Isotropic 할때 ACI CD가 더 작나요?
2. 현업에서 Isotropic, anisotropic profile을 볼 수 있는 측정장비가 무엇인가요?
답변이 안보이시나요? 직접 질문해보세요.
글자수:
0
/ 500
인기 사례
Q. 삼성 자소서 4번
삼성 메모리공정설계 직무로 지원하려고 합니다.
4번 자소서에 400자 정도 학교 종합설계 수업시간에 진행한 "고장진단 가능한 모터 드라이브 프로세스 제작"에 대해 작성하려고 하는데 반도체와 직접적인 관련이 없는 것 같기도 해서 써도 되는지 고민입니다.
고장진단 가능한 모터 드라이브 시스템의 설계, 제작 및 실험, 시뮬레이션을 만들어 봤는데 이에 관련해서 작성해도 될까요?
Q. 1b D램(10나노급 5세대) 수율
삼성전자가 1b D램의 수율을 안정적으로 확보하지 못했다는 기사를 자주 접했습니다.
1. 안정적인 수율(양산 했을 때 경쟁력 있는 수율)의 범위가 어느 정도인지 궁금합니다.
90%이상 일까요?
2. '양산 했을 때 경쟁력 있는 수율'의 기준에서 메모리나 파운드리나 비슷한가요? 아니면 파운드리가 더 미세화된 공정을 요구하기 때문에 조금 더 낮을까요?
Q. 반도체 공정기술,공정설계 희망 취준생 현장실습 기관추천
4-1학기 재학중인 공정기술,공정설계 희망하는 취준생입니다.
다음 두가지 선택지중 어느게 더 좋을지 추천해주시면 감사하겠습니다.
1.기간:6개월(여름방학 + 2학기)
내용:실리콘 카바이드 소재와 펨토초 레이저의 이해 - 펨토초 레이저 장비를 이용한 표면 가공 - 레이저 가공 후 표면 분석 (현미경 분석, 표면 거칠기 측정 등)
2.기간:8주(여름방학)
내용:*반도체 소자 및 공정에 필요한 기초 이론 교육
*selector only memory에 적용되는 cross-bar array 소자 제작 실습 및 연구 보조
*2D 차세대 비메모리 소자 제작 실습 및 연구 보조