기타 · 삼성전자 / 공정설계

Q. not open 현상 해결

공정 진행 중 capacitance가 굉장히 작게 측정되었는데, 이를 contact 저항이 너무 큰 것을 원인으로 판단하였습니다.
contact hole etching이 덜 돼서 not open 현상이 발생한 것 같은데 맞는 논리인지 알고 싶습니다.
그리고 이 not open 현상을 해결할 방법에 대해 알고 싶습니다!