Q. 반도체 Contact 구조
안녕하세요. CMOS 구조의 Contact 관련 질문드립니다.
데이터 분석 교육에서 Contact 형성 시, Etch 이후 Cleaning을 하면서 HF에 의해 인접한 ILD가 over etch 되어 CD가 증가한다는 내용의 프로젝트를 진행했습니다.
Contact CD가 증가하면 leakage가 왜 발생하게 되는지 원리를 알고 싶습니다.
감사합니다.
안녕하세요. CMOS 구조의 Contact 관련 질문드립니다.
데이터 분석 교육에서 Contact 형성 시, Etch 이후 Cleaning을 하면서 HF에 의해 인접한 ILD가 over etch 되어 CD가 증가한다는 내용의 프로젝트를 진행했습니다.
Contact CD가 증가하면 leakage가 왜 발생하게 되는지 원리를 알고 싶습니다.
감사합니다.