대학생 고민 · 삼성전자 / 공정설계
Q. 안녕하세요, etch 공정 관련해서 질문 드립니다.
안녕하세요 선배님들
etch 공정 언어 관련해서 질문 드립니다.
현업에서, contact hole이 unetch되면 not open 됐다고 표현하던데,
via hole도 unetch되면 not open 됐다고 표현하나요?
"via hole not open 이슈 개선" <- 현업에서 보셨을 때 이 말에 오류가 있거나 어색한지 궁금해서 여쭤봅니다!
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인기 사례
Q. 삼성전자 공정설계(메모리/파운더리/제조기술담당)
안녕하세요 삼전 공정설계 직무에 넣으려고하는데 사업부 선택을 고민중입니다. 아래는 제 스펙인데 혹시 어디에 가장 fit하다고 볼수있을까요? 감사합니다.
건동홍라인 전자공학
학점: 3.9/4.5
과대, 학생회 1회, 과동아리 회장 1회
교내 학과수업 설계 프로젝트 4회
대외활동:
대기업(반도체,디스플레이) 서포터즈 대외활동 2회: 둘다 최우수활동자, 데이터분석 연합동아리 6개월
어학:
오픽 IH, 토익 890
자격증: 컴활1급, 빅분기, ADSP. 6시그마
대회:
빅데이터 공모전 최우수상 1회
민원데이터분석 경진대회(참여), AI 알고리즘 모델 개발 경진대회(참여), 디스플레이 챌린지 공모전(참여)
수료증:
반도체 공정 관련 외부 교육 수료증 및 실습 3개
기타:
반도체 블로그 운영(1년반동안 매일 업로드, 총 방문자수 1만5천명이상)
인턴:
정출연 반도체연구소 6개월: 반도체 소자 공정, 소자 제작, 회로구성 및 특성 평가, 머신러닝 알고리즘 작업 등등
Q. [transfer curve data 해석역량 올리기]
공정실습으로 만든 반도체 소자(nMOSFET)을 이용해서 과제를 받았는데 Transfer curve(Id-Vg) 에서 Gate Voltage(0~100V), Vds=0.05V에서 Drain Current(2.23E-13~5.15E-6)인데 Subthreshold Swing이 보통 100mV로 나와야하는데 2V/Dec로 나옵니다. ... Gate Voltage가 100mV로 가정해도 Subthreshold Swing이 2mV/Dec이네요.. 현직자로서 활동을 하려면 빅데이터 분석역량이 필요하다고 생각해서 해당 과목을 들었는데 모르는 것 투성이네요.. 혹시 Subthreshold voltage가 2V/Dec가 나올 수 있나요? 반도체 규격은 L= 80um , W=90um입니다.
Q. 삼성전자 어학성적 등록번호
삼성전자 DS 부문 이력서를 제출했는데, 오픽 어학성적의 등록번호를 기재했는지 기억이 안납니다..혹시 등록번호를 기재 안하면 제출이 불가능 한가요? 아니면 등록번호를 기재 안했다는 가정 하에 추후 서류 합격 시 증명자료를 제출해도 괜찮을까요?