면접 · 모든 회사 / 공정기술

Q. 임원면접 탈락원인 분석법

임원면접 탈락원인 분석하는 법과 어떤 것을 위주로 준비해야 할지 현직자분들의 조언 듣고싶습니다!!

이전에 임원면접을 두번 탈락했습니다. 첫면접은 질문이 몇개 없었고 이력서 질문이 없었습니다. 지원동기와 회사에 대해 설명해보라는 질문 후 흔하고 쉬운 인성질문 몇개 들어온 뒤에 면접이 끝나서 마지막 할말 때 꼭 말하고 싶은 경험과 강점을 말씀드렸지만 병풍을 섰다는 느낌을 지울 수 없었고 떨어졌습니다.
두번째는 공통질문이 10개 정도 개인질문이 3개 정도에 분위기나 흐름이 좋다고 느꼈습니다. 하지만 개인적으로 돌아봤을 때, 다대다여서 굉장히 답변이 웃기는 분이 계셨는데 제가 면접 중에 많이 웃었고 (임원분들도 크게 웃으셔서 그냥 못참고 많이 웃었습니다...) 좀 가볍게 답변한 부분과 겸손해 보이지 않았던 부분이 있었다고 생각합니다 첫번째는 대기업 두번째는 중견이었고

이번에 또 정말 가고싶은 중견기업 임원면접을 가는데 임원면접 피드백을 어디서 받으면 좋고 어떻게 준비해야 좋을까요??

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인기 사례
Q. 반도체 단위공정 Diffusion - Furnace공정
안녕하세요. 반도체 단위공정 엔지니어를 희망하는 취준생입니다. Furnace 공정에서는 Si를 소모해 산화막, 질화막 등을 증착이 아닌 '성장'시킨다고 알고있습니다. 예를 들어 Cleaning 관점에서, 3D stack 구조에서 원하는 Layer만 고 선택비 식각 및 세정하는 것이 구조 형성과 신뢰성 확보의 핵심인 것 처럼, 최근 양산중인 NAND나, DRAM 공정에서 Furnace 공정이 왜 중요하며, 어떤 이슈들이 있는지 알고싶습니다. 감사합니다.

Q. 반도체 Diffusion - Oxidation 공정
안녕하세요. 반도체 Oxidation 공정 질문드립니다. 기본적으로 wet, dry oxidation으로 나뉘고 기존의 실리콘을 45% 소모해서 산화막을 성장시키는 공정이라고 알고 있습니다. 1. oxidation 공정으로 Si3N4 질화막 성장이 가능하다는 이야기를 들었는데, 어떻게 가능한 것인가요? 2. wet, dry oxidation 이외에 Radical oxidation이 있다는 것도 들었는데, 흔히 알려진 oxidation과 메커니즘이 무엇이 다른지 알고 싶습니다. 전공 서적, 하이닉스 뉴스룸에도 관련 자료가 없고 Chat-GPT도 모르는 것으로 보아 혹시 대외비인가요? 항상 감사합니다.

Q. 설계 프로젝트 관련
저는 현재 3학년 2학기에 재학중인 대학생입니다. 이번에 3학년 2학기에 아두이노와 각종 센서 들을 이용하는 설계 프로젝트를 진행하게 되었습니다. 여기에서 좀 좋은 이력을 남기고자 “반도체 테스트, 패키징” 부분과 연관 지어서 작품을 제작하고 싶은데, 제 부족한 머리로는 아이디어가 나오지 않아 도움을 요청 드립니다. 혹시 이와 관련하여 조언을 얻을 수 있을까요? 감사합니다.