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Q. 나이트라이드에서 N결합이 박막의 uniformity에 어떤 영향을 미치는지 궁금합니다.
N2플라즈마에 의해 질소 라디컬이 많아지면 박막에 질소 결합이 증각해 박막의 etch rate가 증가한다고 알고 있습니다. 어떤 매커니즘인지 궁금합니다.
2024.09.07
답변 1
- ccw3268도쿄일렉트론코리아코이사 ∙ 채택률 94%
어떤 박막인지 작성 안해주셨는데, 박막마다 ER이 증감할 수 있습니다. 예를들어 PR의 경우는 N2를 첨가하면 보통은 증가합니다.
댓글 2
ffuniser작성자2024.09.08
SiN 박막의입니다
ffuniser작성자2024.09.08
혹시 SiN PECVD 증착에서 Ar가스의 유량을 증가시켜 표면수소결합을 탈착시켜 표면재결합률을 상승시킴으로 표면의 화학적 안정도를 높이고, er을 감소시킨다는 논리는 맞나요?
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