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Q. 반도체 케미컬 공정관리 직무

지원하는 직무에서 - 반도체 제조공정에 사용되는 고순도 화학제품 - Wafer의 표면을 연마하거나 광역 평탄화하는데 사용하는 Mixed Chemical - 차세대 Etching Solution 및 첨가제 - TFT-LCD 패널의 금속 배선을 형성하는데 적용하는 각종 Etchant - 반도체 공정 중 식각 완료 후 포트레지스트를 제거하는 Stripper - Wafer와 Glass Panel 표면의 오염을 제거하는 기능성 세정액 - 반도체용 Photo Resist 을 제조하는데요, 공정/장비 엔지니어가 수행하는 업무 공정/장비 엔지니어에게 요구되는 역량 공정/장비 엔지니어의 장/단점 포토 공정 소개(진행 순서 소개) 1. TFT 공정의 흐름 2 -1. 포토 공정의 개념 2-2. 포토 공정의 필요성 ㄴ Posi PR과 Nega PR의 포토 공정 이후 Profile 차이 3. 포토 공정에 사용되는 장비 4. 포토 공정의 주요 관리 Factor 이 내용을 공부하면 도움이 좀 될까요?