자소서 · 삼성전자 / 공정기술
Q. 반도체 공정기술 식각
안녕하세요. 반도체 공정기술로 취업을 준비중인 취준생입니다! 제가 현재 층과 층사이의 절연층을 SiO2, Si3N4 대신 유전율이 2.9인 플렉서블한 절연소재를 사용하고 있고 ICP-RIE를 이용해 Via Hole 패턴을 형성시키고있습니다. 혹시 자소서에 식각 소재 설명할 때 플렉서블 키워드보다 Low-k 단어를 사용하여 작성하는게 더 괜찮을까요?
2024.07.03
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