Q. 산포 Uniformity Non-uniformity

답변 6

• 칸

  칸칸이삼성전자

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  일치

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  채택된 답변

  1. 현업에서 uniformity 개념을 어떻게 사용하는지 Uniformity는 균일성을 의미하며, 현업에서는 일반적으로 값으로 해석합니다. 즉, 특정 공정이나 제품의 균일성을 평가할 때 Uniformity 값이 낮을수록 균일한 상태를 의미합니다. 2. Uniformity 값이 낮다는 것과 균일성이 크다는 것의 관계 Uniformity 값이 낮다 = 균일성이 크다 (즉, 제품이나 공정이 더 균일함) Uniformity 값이 높다 = 균일성이 작다 (즉, 편차가 크고 균일하지 않음) 현업에서는 Uniformity를 값으로 사용하는 경우가 많아, "Uniformity 값이 낮다"라고 하면 일반적으로 "균일성이 크다(좋다)"라고 받아들입니다. 3. CMP 공정에서 Non-Uniformity를 사용하는 이유 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정에서는 일반적으로 Non-Uniformity라는 표현을 더 많이 사용합니다. 이는 CMP 공정의 특성 때문인데, CMP에서는 표면 평탄화(Planarization)가 핵심 목표이므로, 얼마나 균일하지 않은지를 측정하는 것이 더 중요하기 때문입니다. 즉, CMP 공정에서는 불균일성을 직접 측정하기 위해 Non-Uniformity = (최대 두께 – 최소 두께) / 평균 두께 × 100% 와 같은 방식으로 표현하는 경우가 많습니다. 결론적으로 CMP에서는 Non-Uniformity 값이 낮을수록 더 균일한 표면을 의미하며, 일반적인 반도체 공정에서는 Uniformity 값이 낮을수록 균일성이 높은 것을 의미합니다.

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• 졸

  졸린왈루(주)KEC

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  안녕하세요 멘티님 1. 산포는 전체적인 데이터의 평균적인 벌어짐 정도를 의미하는 거고 uniformity는 데이터 간의 균일성을 의미하는 것으로 동일하게 사용하지는 않습니다. 후자는 데이터의 스펙 정도를 나타낼 때 주로 사용합니다. 2. uniformity 값이 높으면 균일하다고 생각하심 돼요. 3. cmp 공정은 평탄화를 목적으로 하기 때문에 수치상으로 나타내기에 non uniformity가 훨씬 직관적이기 때문입니다. 멘티님의 취업에 좋은 결과 있길 바랄게요~

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• 도

  도다리쑥국삼성전자

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  일단 - 산포 = Mass Wafer 상 불량을 얘기할 때 많이 씁니다 뭐 웨이퍼가 100K 흘렀는데 그 중 ㅇㅇ 불량이 많이 떴지만 산포 내에 있다..이런 식으로요 -Uniformity는 CMP를 기준으로 얘기하면 wafer ㅁㅁ층이 높이가 균일하다 = uniformity가 높다, 균일하지 않다(불량)=non-uniformity하다 라고 합니다. CMP는 어떻게 한다더라..에 집중하는 것은 크게 중요하지 않고 의미만 잘 통하면 되기 때문에 높은 Uniformity를 가진 Wafer를 만드는 게 목적이라는 걸 생각하시고 다시 자소서를 정리하면 안 헷갈리지 않을까 싶네요~

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• 도

  도다리쑥국삼성전자

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  일단 - 산포 = Mass Wafer 상 불량을 얘기할 때 많이 씁니다 뭐 웨이퍼가 100K 흘렀는데 그 중 ㅇㅇ 불량이 많이 떴지만 산포 내에 있다..이런 식으로요 -Uniformity는 CMP를 기준으로 얘기하면 wafer ㅁㅁ층이 높이가 균일하다 = uniformity가 높다, 균일하지 않다(불량)=non-uniformity하다 라고 합니다. CMP는 어떻게 한다더라..에 집중하는 것은 크게 중요하지 않고 의미만 잘 통하면 되기 때문에 높은 Uniformity를 가진 Wafer를 만드는 게 목적이라는 걸 생각하시고 다시 자소서를 정리하면 안 헷갈리지 않을까 싶네요~

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• d

  dev.jelly삼성전자

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  안녕하세요! uniformity가 크면 균일하다고 알고 있습니다 산포와는 조금 다른 개념으로 사용됩니다

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• 흰

  흰수염치킨삼성전자

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  안녕하세요. 멘토 흰수염치킨입니다. 1) 다른 개념이예요 2) 계산식을 보면 값이 작을수록 균일하다는 걸 알 수 있어요 도움이 되었으면 좋겠네요. ^_^

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