직무 · 삼성전자 / 공정기술
안녕하세요, 식각/증착/이온주입 공정에서 웨이퍼를 정전기력으로 고정해주는 장치인 ESC가 사용된다고 알고 있습니다. 노광 공정에서도 DUV나 EUV 장비에서 ESC가 사용되는지 궁금합니다. 사용되지 않는다면 이유가 무엇인지도 궁금합니다.
2025.11.03
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학점 때문에 사기업과 공기업 중 고민입니다. 저는 지방사립대에서 지거국으로 편입하여 현재 4학년 재학중이고, 전적대평점 3.7/4.5(1학년4.3, 2학년2점대), 현학교평점 3.34/4.5입니다(다른 스펙 전무). 5학년이라도 해서 C를 없애고 어떻게든 대학원 진학을 해야 할지, 아님 회생불가한 학점이니 사기업 욕심을 버리고 빨리 공기업 준비를 해야 할 지 모르겠습니다(취업시장 안좋은 현재 상황이라면 더더욱). 반도체는 공정이나 양산기술 같은 분야로 가고 싶어 반도체 과목을 많이 들었지만 성적이 B0~C+정도로 좋지 못한 상황입니다. 주제넘지만 높은 연봉에 대한 미련때문에 5학년을 해서 학점을 조금이라도 더 올리고 대학원에 진학해서 제 능력을 더 키워서 대기업에 들어가고 싶긴 하지만 현실적으로 정말 힘든일인거 같기도 하고 일단 학점이 제 발목을 너무 잡아서 서류부터 떨어질 거 같다는 생각이 들어 의욕과 자신감이 떨어집니다. 선배님들이라면 제 상황에 어떤 선택을 하셨을지 궁금합니다.
안녕하세요. 공정기술 직무를 희망하는 반도체 전공자입니다. 1.삼성전자 공정기술의 경쟁률이 너무 높을 것 같아 삼성전기를 고려 중인데 괜찮을 선택일까요? 2.계열사 간 이직은 불가능한 것으로 아는데, 퇴사 이후 다른 회사를 갔다가 이후 삼성전자 지원 시 이력서에 삼성전기와 관련한 내용이 있어도 불이익이 있을까요?
삼성전자 DS 공정기술 GSAT 합격해 면접 준비하고 있습니다. PT 면접 질문이 어떻게 나올지 감이 안 잡혀서 질문 드립니다... 어떤 식으로 질문이 나오고 어떻게 공부하면 좋을까요?
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답변 5
채택된 답변지원자님 안녕하세요~! 질문 정말 수준 높아요~ ESC(Electrostatic Chuck)의 사용 여부는 공정 특성에 따라 달라지는데요, 말씀하신 것처럼 식각(Etch), 증착(CVD, PVD), 이온주입 공정에서는 ESC가 필수적으로 사용됩니다! 그 이유는 이들 공정이 진공 상태에서 고온·고전압 환경에서 진행되기 때문이에요. ESC는 정전기력을 이용해 웨이퍼를 플래튼(Chuck)에 단단히 고정함으로써, 웨이퍼의 흔들림 방지, 열전달 안정화, 플라즈마 균일성 확보에 큰 역할을 합니다. 반면 노광(Exposure) 공정에서는 ESC가 일반적으로 사용되지 않습니다~ DUV나 EUV 노광장비 모두 진공보다는 정밀 기계적 스테이지 제어를 통해 웨이퍼를 고정하고 이동시키는 방식을 사용해요. 이유는 몇 가지가 있습니다. 첫째, 노광 공정은 광학 정렬(Alignment)과 포커싱(Focus) 정확도가 나노 단위로 요구되기 때문에, 웨이퍼의 평탄도 유지와 미세 위치 제어가 핵심이에요. ESC는 정전기력의 미세한 변동이나 열에 의한 뒤틀림이 발생할 수 있어, 이러한 초정밀 정렬에는 오히려 불리할 수 있습니다. 둘째, 노광 공정에서는 웨이퍼 이송 속도와 반복 정렬 빈도가 매우 높습니다. 웨이퍼가 스테이지 위에 빠르게 로딩·언로딩되어야 하는데, ESC 방식은 정전기 결합과 해제가 일정 시간이 필요해 생산 효율이 떨어질 수 있죠. 따라서 기계적 클램프나 진공 척(Vacuum Chuck)이 사용되어, 더 빠르고 안정적인 고정이 가능하도록 설계되어 있습니다. 다만 예외적으로, EUV 노광 장비의 펠리클 없는 구조나 웨이퍼 진공 챔버 환경에서는 국소적으로 정전기 흡착 기술이 일부 적용되기도 하지만, 이는 전통적인 ESC보다는 정밀 위치보정용 미세 정전흡착 시스템에 가깝습니다~ 정리하자면, ESC는 식각·증착·이온주입 공정에서는 플라즈마와 열 제어를 위한 핵심 장치, 반면 노광 공정에서는 기계적 고정 방식이 초정밀도 유지에 유리하기 때문에 일반적으로 사용되지 않는다고 보시면 됩니다~ 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!
댓글 1
2025.11.04
이해 정말 잘됐어요 감사합니다 !!
멘티님, 노광 공정(DUV, EUV)에서는 ESC가 일반적으로 사용되지 않고, 대신 진공 척이나 기계적 방식의 척이 주요하게 활용됩니다. 노광 공정은 매우 높은 평탄도와 정밀한 위치 제어가 필요해 ESC 특유의 두께 변화, 잔류 전하 등 미세한 불확실성을 기피합니다. DUV/EUV 노광 장비는 빛의 간섭과 패턴의 오차가 치명적이기 때문에 진공 척의 안정성과 반복성이 더 중요하게 평가됩니다. ESC는 주로 식각, 증착, 이온주입처럼 플라즈마 또는 고온 공정에서 웨이퍼 고정을 위한 용도로 적합하다는 특성이 있습니다. 따라서 노광에서는 ESC 대신 진공 척 혹은 공압 척이 주로 사용된다고 이해하시면 정확합니다, 파이팅입니다!
