Q. 삼성전자 반도체 연구소 dram 스킴

답변 5

• M

  Memory Department삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 82% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  지원자님, 반갑습니다~! DRAM 기술 스킴 관련해서 궁금하신 부분이 있으시군요! 현재 D1C가 반연구에서 양산 단계로 넘어가고 있는 상황에서, 삼성전자의 DRAM 공정 로드맵이 계속 발전 중인 건 맞아요~ 4F² 셀 구조가 메모리 사업부에서 실제 양산되는 시점을 놓고 본다면, D1D부터 본격적으로 적용될 가능성이 높다고 볼 수 있어요. D1C는 기존 6F² 셀 구조를 고도화하고 미세 공정 기술을 더욱 정교하게 다듬는 단계라서, 4F²의 셀 사이즈 축소와 같은 새로운 셀 구조의 도입은 다음 세대인 D1D부터 양산에 적용될 것으로 예상됩니다. 물론, 정확한 시점과 적용 범위는 삼성의 기술 개발 속도와 시장 상황에 따라 달라질 수 있기 때문에, 삼성전자가 발표하는 최신 로드맵이나 기술 컨퍼런스를 참고하는 것도 좋은 방법이에요~ 조금 더 구체적인 정보를 원하신다면, 내부 자료나 공식 발표 자료를 면밀히 살펴보시는 게 정확할 거예요! 하지만 현재 기술 트렌드로 보아 D1D 이후의 세대에서 4F² 셀 구조가 본격적으로 도입될 것으로 보이니, 준비하시는 면접이나 직무 이해에도 큰 도움이 되리라 생각합니다~ 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다! ~~

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• 황

  황금파이프삼성전자

  코부사장 ∙ 채택률 77% ∙

  회사

  일치

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  안녕하세요. 말씀하신 부분은 대외비적인 내용이라서 답변이 어려울 것 같습니다.

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• 3

  3분커리er삼성전자

  코이사 ∙ 채택률 50% ∙

  회사

  일치

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  해당 내용은 대외비라 말씀드리기 어렵습니다

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• 탁

  탁기사삼성전자

  코사장 ∙ 채택률 78% ∙

  회사

  직무

  일치

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  해당 사항은 대외비로 말씀드리는 분이 많이 없을 것 같아요. 다만 언론에서 알려준 대로 현재 d1b는 양산중이며 d1c는 개발진행중이고 그 뒤에 훗단 d1d까지 연구소에서 스킴을 짜고있습니다.

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• 도

  도다리쑥국삼성전자

  코이사 ∙ 채택률 58% ∙

  회사

  일치

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  해당 내용은 대외비입니다. 답변드리기 어렵습니다.

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