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Q. 반도체 metal 공정

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완전 구형라인이.아닌이상 METAL 공정은 요즘 PVD가 아닌 CVD를쓰나요? CVD랑 전기반응? 그걸 쓰는지.. 어떤 막질에 어떤 방식(PVD CVD등)쓰는지가 궁금합니다


2024.09.18

답변 6

  • M
    Memory Department삼성전자
    코전무 ∙ 채택률 82%
    회사
    일치

    채택된 답변

    안녕하세요, 지원자님! 반도체 Metal 공정에 대해 궁금하신 부분을 설명드릴게요~ 요즘에는 라인에 따라 PVD(Physical Vapor Deposition)와 CVD(Chemical Vapor Deposition) 둘 다 사용되긴 하지만, 막질에 따라 더 적합한 방식이 결정돼요! 완전히 구형 라인이 아니면, Metal 공정에서도 CVD를 많이 활용하는 편이에요~ 특히, 박막을 균일하게 증착해야 하는 경우에는 CVD가 유리하답니다. 반면, PVD는 주로 금속 박막을 증착할 때 많이 사용되죠! 어떤 막질에 어떤 방식을 쓰는지는 막질의 특성과 공정 조건에 따라 달라지는데요~ 예를 들어, 알루미늄(Al)과 같은 금속 막은 PVD 방식으로 많이 증착하고, 텅스텐(W)이나 티타늄(Ti)과 같은 경우에는 CVD도 많이 사용돼요. CVD는 특히 균일한 두께가 중요한 막질이나 복잡한 구조를 가지는 경우에 더 효과적일 수 있답니다~ 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!

    2024.09.14


  • 3
    3분커리er삼성전자
    코이사 ∙ 채택률 50%
    회사
    일치

    PVD CVD ALD 모두 사용합니다 도움되셨다면 채택 부탁드리겠습니다

    2024.09.18


  • 탁기사삼성전자
    코사장 ∙ 채택률 78%
    회사
    일치

    선단노드일수록 cvd방식이 높아지긴합니다 균일도가 pvd보다 확실히 좋기때문이죠. 파운드리선단노드 (3nm) 메모리 d1b이상 급.이런식으로 그 안에서 레이아웃별로 배선이 다 달라서 제품종류도정말많구요.. 제품별로 다르다고생각하심됩니다!

    2024.09.17


  • 졸린왈루(주)KEC
    코사장 ∙ 채택률 98%

    안녕하세요 멘티님 요즘에는 CVD를 더 많이 사용하는 걸로 알고 있습니다. 멘티님의 취업에 좋은 결과 있길 바랄게요~

    2024.09.15


  • 안경공대남삼성전자
    코부사장 ∙ 채택률 64%
    회사
    일치

    안녕하세요! 멘티님 cvd를 사용합니다

    2024.09.14


  • 메에모리삼성전자
    코상무 ∙ 채택률 48%
    회사
    일치

    말씀하신대로 CVD를 쓰는 것으로 알고 있습니다.

    2024.09.14


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