대학생활 · 삼성전자 / 모든 직무
Q. 반도체 P형, N형 도핑할 때, 사용하는 불순물에 대해서
P형 도핑은 3가 원소인 붕소나 알루미늄을 사용하여 4가 원소인 Si 자리에 들어가서, Hole이 하나 남는 형태로 만드는 작업이고, N형 도핑은 5가 원소인 인, 비소를 사용해서 전자를 하나 남는 형태로 만드는 작업으로 알고 있습니다. 그런데 왜 1가나 2가 / 6가나 7가 원소는 사용하지 않는 건가요? 더 많은 Hole이나 전자를 남겨서 도핑 농도를 낮출 수 있지 않나요?
2022.08.22
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