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Q. 포토공정
포토 공정에서 Positive tone development과 positive pr 차이가 무엇인지 궁금합니다 둘 다 빛 받은 부분이 현상 된다는 점에서 같은거 같은데 차이 알려주시면 감사하겠습니다!
2024.06.13
답변 6
- 33분커리er삼성전자코이사 ∙ 채택률 49% ∙일치회사
Postive tone development는 노광에 의해 PR이 제거되는 현상 자체를 말하는 것 같고, POSITVE PR은 그런 특성을 가지는 PR 의 종류를 말하는 것으로 보입니다 도움 되셨다면 채택 부탁드리겠습니다
- 탁탁기사삼성전자코사장 ∙ 채택률 78% ∙일치회사
positive pr은 노광된 곳이 사라지는것입니다. 즉 positive (+) 쪽에 노광을 하고 현상 (develop)를 하면 그 부분이 사라지게 되고 그쪽이 파이게 되는거죠, 두개가 애초에 개념이 달라서 차이보다도 positive pr 노광 → 현상 이라고 생각하시면 좋겠습니다.
두부르농업회사법인닥더애그주식회사코전무 ∙ 채택률 59%PR은 일반적으로 빛을 받은 부분이 화학적으로 변하여 현상액에 녹아 제거되는 포토레지스트의 종류 이고 positive Tone development 는 이러한 pr를 사용하여 빛을 받은 부분이 현상액의 의해 제거되는 현상과정을 말합니다.
- 진진취컨설턴트영남이공대학교코과장 ∙ 채택률 75%
포토 공정에서 Positive Tone Development와 Positive PR은 둘 다 노출된 부분이 현상되는 방식에서 유사하지만, 두 공정의 차이점은 다음과 같습니다: 1. **Positive Tone Development (양성 톤 현상)**: - **개념**: 빛에 노출된 부분이 현상액에 의해 제거되는 공정입니다. 노광된 부분이 용해되어 제거되고, 노광되지 않은 부분이 남아 패턴을 형성합니다. - **사용**: 주로 반도체 제조에서 패턴을 형성하기 위해 사용됩니다. 회로 설계에서 필요한 특정한 형상을 만들기 위해 사용됩니다. 2. **Positive PR (Positive Photoresist, 양성 포토레지스트)**: - **개념**: Positive Tone Development에서 사용하는 포토레지스트입니다. 빛에 노출된 부분이 용해되어 제거되기 때문에 노광된 부분이 현상액에 의해 제거됩니다. - **사용**: 마스크를 통해 빛을 비춘 후 노광된 부분이 현상액에 의해 제거되면서 원하는 패턴이 형성됩니다. 즉, Positive Tone Development는 공정 자체를 의미하며, Positive PR은 그 공정에서 사용하는 포토레지스트의 종류를 의미합니다. Positive Tone Development는 Positive PR을 사용하여 수행되며, 이 둘의 차이는 공정의 개념과 재료의 종류로 이해할 수 있습니다.
- 졸졸린왈루(주)KEC코사장 ∙ 채택률 98%
전자는 현상 시 positive tone 과 negative tone으로 나뉘는 것이고, 후자는 pr의 종류입니다. positive pr을 사용하고도 현상은 두 가지로 모두 진행가능합니다.
- 메메에모리삼성전자코상무 ∙ 채택률 48% ∙일치회사
같은 공정 용어를 지칭하는 것 같습니다!
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