Q. CMOS process 중에서

답변 8

• 탁

  탁기사삼성전자

  코사장 ∙ 채택률 78% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  well을 먼저 만들고 나서 그 후 절연막을 증착하여 isolation시키게 됩니다.~

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  댓글 1

  ㅏ

  ㅏㅏㅏㅇㄱ요ㅗㅑㅗ

  작성자

  2024.05.16

  답변 감사합니다!

• c

  cw3268도쿄일렉트론코리아

  코이사 ∙ 채택률 94%

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  채택된 답변

  Iso로 분리 시키고 N/P well 형성합니다.

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  댓글 1

  ㅏ

  ㅏㅏㅏㅇㄱ요ㅗㅑㅗ

  작성자

  2024.05.16

  답변 감사합니다!

• i

  iiiiiiiiiiiiiiiii삼성전자

  코이사 ∙ 채택률 63% ∙

  회사

  일치

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  안녕하세요. isolation 먼저하고 well 형성하는 방식이 맞지 않나 싶습니다.

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• 졸

  졸린왈루(주)KEC

  코사장 ∙ 채택률 98%

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  안녕하세요 멘티님 Well 형성 후 isolation을 형성합니다. 멘티님의 취업에 좋은 결과 있기를 바라겠습니다.

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• 3

  3분커리er삼성전자

  코이사 ∙ 채택률 49% ∙

  회사

  일치

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  ISOLATION 이 먼저인것으로 압니다~!

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• l

  lIIIIl삼성전자

  코사장 ∙ 채택률 79% ∙

  회사

  일치

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  Isolation 공정을 먼저 진행합니다.

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• 흰

  흰수염치킨삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 57%

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  안녕하세요. 멘토 흰수염고래션입니다. isolation 이후 well을 만들고 있어요 도움이 되었으면 좋겠네요. ^_^

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• 다

  다시 돌아온 상코미코

  코사장 ∙ 채택률 99%

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  안녕하세요 멘티님 해당 질문에 대해 답변 드리겠습니다. isolation이 먼저입니다. 분리 이후에 well을 형성합니다. 도움이 된 답변이라면 채택 부탁드려요! 취업에 성공하시길 바랍니다!

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