대학생활 · 삼성전자 / 모든 직무

Q. CMOS process 중에서

ㅏㅏㅏㅇㄱ요ㅗㅑㅗ

well 형성과 isolation 공정 중에 무엇을 먼저 진행하나요??


2024.05.26

답변 8

  • 탁기사삼성전자
    코사장 ∙ 채택률 78%
    회사
    일치

    채택된 답변

    well을 먼저 만들고 나서 그 후 절연막을 증착하여 isolation시키게 됩니다.~

    2024.05.16



    댓글 1

    ㅏㅏㅏㅇㄱ요ㅗㅑㅗ
    작성자

    2024.05.16

    답변 감사합니다!


  • c
    cw3268도쿄일렉트론코리아
    코이사 ∙ 채택률 94%

    채택된 답변

    Iso로 분리 시키고 N/P well 형성합니다.

    2024.05.16



    댓글 1

    ㅏㅏㅏㅇㄱ요ㅗㅑㅗ
    작성자

    2024.05.16

    답변 감사합니다!


  • i
    iiiiiiiiiiiiiiiii삼성전자
    코이사 ∙ 채택률 63%
    회사
    일치

    안녕하세요. isolation 먼저하고 well 형성하는 방식이 맞지 않나 싶습니다.

    2024.05.26


  • 졸린왈루(주)KEC
    코사장 ∙ 채택률 98%

    안녕하세요 멘티님 Well 형성 후 isolation을 형성합니다. 멘티님의 취업에 좋은 결과 있기를 바라겠습니다.

    2024.05.18


  • 3
    3분커리er삼성전자
    코이사 ∙ 채택률 49%
    회사
    일치

    ISOLATION 이 먼저인것으로 압니다~!

    2024.05.18


  • l
    lIIIIl삼성전자
    코사장 ∙ 채택률 79%
    회사
    일치

    Isolation 공정을 먼저 진행합니다.

    2024.05.17


  • 흰수염치킨삼성전자
    코전무 ∙ 채택률 57%

    안녕하세요. 멘토 흰수염고래션입니다. isolation 이후 well을 만들고 있어요 도움이 되었으면 좋겠네요. ^_^

    2024.05.16


  • 다시 돌아온 상코미코
    코사장 ∙ 채택률 99%

    안녕하세요 멘티님 해당 질문에 대해 답변 드리겠습니다. isolation이 먼저입니다. 분리 이후에 well을 형성합니다. 도움이 된 답변이라면 채택 부탁드려요! 취업에 성공하시길 바랍니다!

    2024.05.16


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