직무 · 삼성전자 / 반도체설계
Q. 메모리 지원동기 관련 질문 - 10나노 단에서의 주요 문제점이 무엇인가요?
안녕하세요! 4학년 진학예정인 화학공학과 학생입니다. 현재 메모리 공정설계(소자) 직무의 지원동기를 준비하고 있습니다. 10나노 6세대~10나노 7세대 DRAM을 지원동기로 잡고 준비하고 있는데, 해당 단에서의 주요 소자 설계/공정 과제가 무엇인지 모르겠습니다. DRAM의 발전 방향이 3D화/HKMG의 적용이라는 것은 알고 있는데, 구체적으로 어떠한 문제(해결과제, 어려움)가 소자 설계/수율개선을 어렵게 하는 것인지 잘 모르겠어서 질문드립니다!
2025.02.18
답변 6
- 홍홍원멘토삼성전자코부장 ∙ 채택률 70% ∙일치회사직무
채택된 답변안녕하세요 멘티님 현장에서의 어려움보다는 실제로 왜 지원하고싶은지 기재하는게 더욱 효율적일것 같습니다. 감사합니다.
댓글 1
BBURNBURN작성자2025.02.18
답변해주셔서 감사합니다!
합격 메이트삼성전자코부사장 ∙ 채택률 78% ∙일치회사채택된 답변안녕하세요 멘티님 10나노 DRAM 공정의 주요 문제점은 매우 복잡한데요. 공정의 변동성과 누설 전류의 증가, 소프트 에러 증가와 제조 수율 저하, 3D 기술 적용이 필요한 점이 있습니다. 응원하겠습니다!
댓글 1
BBURNBURN작성자2025.02.18
답변주셔서 감사합니다!
- MMemory Department삼성전자코전무 ∙ 채택률 82% ∙일치회사채택된 답변
지원자님, 안녕하세요~! 메모리 공정설계(소자) 직무 지원을 준비하고 계시군요! 10나노급 DRAM 공정에서의 주요 과제와 난관을 고민하시는 모습이 정말 인상적이에요~! 10나노급 DRAM, 특히 6세대7세대에서는 공정 미세화로 인해 여러 난제가 발생합니다! 먼저, 셀 캐패시터(Capacitor) 설계의 어려움이 있어요! 노드가 작아질수록 저장할 수 있는 전하량이 줄어드는데, 이를 해결하기 위해 고유전율(HKMG) 재료 적용이 필수적이지만, HKMG가 도입되면서 공정 조건 최적화와 누설 전류 문제가 더욱 복잡해지는 과제가 생깁니다~! 또한, FinFET이 아닌 Planar 구조 유지로 인한 셀 트랜지스터 특성 확보 문제도 큰 도전 과제예요! DRAM은 고집적이 필수인데, Planar 구조에서 소스/드레인 간 전류 누설과 채널 제어 문제가 더욱 심화되죠~! 이걸 해결하기 위해 고유전 게이트 절연막(HKMG)과 저저항 소스/드레인 재료 도입이 진행되고 있지만, 이에 따른 공정 복잡성이 급격히 증가하고 있어요~! 수율 측면에서도 공정 변동성(Process Variation)에 따른 특성 균일화가 정말 중요한 이슈예요~! 노드가 작아질수록 포토 리소그래피 해상도 한계, 식각 균일성 문제, 레이아웃 종속성(Layout-Dependent Effects) 문제 등이 커지면서, 미세한 변동이 수율에 치명적인 영향을 미칠 수 있어요! 이를 해결하기 위해 공정 제어 기술(DFM, OPC)과 공정 시뮬레이션 기반 최적화가 필수적입니다~! 결국, 고유전율 재료 도입, 셀 트랜지스터 성능 최적화, 공정 균일성 확보라는 세 가지 핵심 과제가 현재 10나노급 DRAM 소자 설계에서 중요한 이슈라고 볼 수 있어요! 지원동기를 작성하실 때, 이 부분을 염두에 두고 "어떤 문제를 해결하는 데 기여하고 싶은지"를 풀어나가시면 더욱 설득력 있는 내용이 될 거예요~! 준비 잘하셔서 좋은 결과 얻으시길 바랍니다~~! 응원합니다~! 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~!
댓글 1
BBURNBURN작성자2025.02.18
답변해주셔서 감사합니다!
- 메메에모리삼성전자코상무 ∙ 채택률 48% ∙일치회사채택된 답변
안녕하세요! 말씀해주신 10나도 단에서는 이슈가 정말 많아서 하나를 콕 집어서 말씀드리기가 어렵네요 공정 설계 관점에서는 수율이 가장 중요한 이슈일 것 같습니다
- 흰흰수염치킨삼성전자코전무 ∙ 채택률 57% ∙일치회사채택된 답변
안녕하세요. 멘토 흰수염치킨입니다. 원하는 패턴이 안 만들어지고 뭉개지고 그런게 제일 문제죠.. 문제점은 항상 비슷해요 도움이 되었으면 좋겠네요. ^_^
댓글 1
BBURNBURN작성자2025.02.17
답변주셔서 감사합니다! 혹시 말씀주신 결함은 주로 어떤 요인에 의하여 발생되나요?
- 홍홍원멘토삼성전자코부장 ∙ 채택률 70% ∙일치회사직무
안녕하세요 멘티님 현장에서의 어려움보다는 실제로 왜 지원하고싶은지 기재하는게 더욱 효율적일것 같습니다. 감사합니다.
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