Q. 챔버 청소 질문

답변 2

• M

  Memory Department삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 82% ∙

  회사

  일치

  ---

  안녕하세요~! 1. SiO2 증착 과정에서 히터 표면에 파티클이 생겼다면, 플라즈마 청소를 진행할 때는 일반적으로 O₂ 또는 Ar을 사용해요. O₂는 유기물 파괴에 효과적이고, Ar은 물리적 청소에 도움이 되죠. 플라즈마 청소의 압력은 0.5~5 Torr 범위에서 진행하는 경우가 많아요. 이 범위는 효율적인 청소와 함께 표면 손상을 최소화하는 데 도움이 됩니다~! 2. 압력이 너무 세면 히터 표면이 부식되거나 손상될 수 있어요. 플라즈마 청소는 너무 높은 압력보다는 적정 범위인 0.55 Torr 내에서 진행하는 것이 좋답니다! 압력이 너무 높으면 플라즈마의 에너지가 지나치게 강해져서 표면에 부정적인 영향을 줄 수 있어요~! 3. 플라즈마 청소 후에도 파티클이 완전히 제거되지 않았다면, DI water나 IPA를 와이퍼에 묻혀서 물리적으로 닦아주는 것도 일반적인 방법이에요~! 하지만 이 과정은 플라즈마 청소가 완료된 후, 표면에 잔여물이 있는 경우에 사용하는 방법으로, 표면 손상 방지를 위해 신중하게 진행하는 것이 좋습니다~! 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!

  ---
• 메

  메에모리삼성전자

  코상무 ∙ 채택률 49% ∙

  회사

  학교

  일치

  ---

  네 말씀하신 과정들 대부분 진행됩니다.

  ---