직무 · SK하이닉스 / 공정개발
Q. Q. photolithography 중 development 후 OM 확인 시 불량률 지표
안녕하세요. 반도체 공정실습을 진행하던 중, photolithography 시 development를 진행한 뒤, 패턴의 불량여부를 확인하기 위해서 OM을 통해 하나하나 패턴을 살피고 defect 여부, 과도한 development로 인한 PR 과한 strip 등을 살폈습니다. 그런데 이 단계에서 OM으로 보는것 말고도 overlay라는 방법으로 정상 패턴과 겹쳐 판단하는 방법도 있다고 들었습니다. 1. 실제로 양산을 진행할 때 overlay를 매 wafer마다 development 직후 진행하는지 궁금합니다. 2. OM으로 보는 경우도 있는지 궁금합니다. 실습에서 OM으로 보게 되면 어떤 걸 기준으로 패턴이 잘 형성되었는지 결정 내릴 수 있는 방법을 잘 모르겠어서요.
2025.01.12
답변 7
- 엔엔지니어멘토SK하이닉스코부사장 ∙ 채택률 81% ∙일치회사
채택된 답변안녕하세요. Overlay를 측정하는건 회사마다의 방침이 다르기에 꼭 어떻다라고 하기는 어렵습니다. 다만 Overlay의 필요에 따라 더 강화하기도하지만, 전수측정은 쉽지 않은 방법이라고 생각합니다. 대부분은 Sampling을 진행합니다. OM대신에 SEM을 이용해서 Pattern을 확인하는것들은 진행하고 있습니다. 다만 실제로 Pattern을 보면서 말씀하신것처럼 PR Strip 상태 경계면 등에 대해서는 확인을 진행합니다.
- 졸졸린왈루(주)KEC코사장 ∙ 채택률 98%채택된 답변
안녕하세요 멘티님 1. 랏마다 진행합니다. 2. OM으로는 양산에 적합하지 않아서 잘 사용 안해요. 멘티님의 취업에 좋은 결과 있길 바랄게요~
- 다다시 돌아온 상코미코코사장 ∙ 채택률 99%채택된 답변
안녕하세요 멘티님 해당 질문에 대해 답변 드리겠습니다. 1. 네 오버레이 매 웨이퍼마다 확인합니다. 2. OM는 잘 사용하지 않고 양산에 맞는 기기를 사용합니다. 도움이 된 답변이라면 채택 부탁드려요! 취업에 성공하시길 바랍니다!
어니언슾SK하이닉스코상무 ∙ 채택률 73% ∙일치회사채택된 답변Overlay를 모두 측정하진 않습니다. 샘플링 기법을 통해 WF가 잘 진행되고 있는지 확인합니다. 공정이 진행된 후 CD가 원하는 값 수준으로 잘 형성되었는지, Pattern이 일자로 잘 나오거나 Hole 모양으로 잘 노광되었는지 등 다양한 패턴으의 모양을 보고 판단할 수 있게 됩니다.
- 니니꿈은뭐니삼성전기코사장 ∙ 채택률 86%채택된 답변
1. 매장은 아니고 매로트마다 임의선정된 일정수량의 웨이퍼를 확인합니다. 2. OM으로 보지않고 자동 비쥬얼검사기를 통해 확인되고 원 디자인이 반영된 포토마스크와 대비시켜 형성 여부를 가려냅니다.
- 하하닉이궁금증해소SK하이닉스코이사 ∙ 채택률 56% ∙일치회사채택된 답변
1.네 MI 계측 부서에서 overay cd 계측합니다. 2. 양산에서는 전문 장비를 사용합니다
로우닉스SK하이닉스코상무 ∙ 채택률 75% ∙일치회사채택된 답변1. 오버레이 매 웨이퍼마다 진행합니다. 2. OM은 배율의 한계가 있어서 실제 나노 단위 소자 제작에는 사용하지 않습니다.
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