직무 · SK하이닉스 / 공정기술

Q. 포토공정 노광시간, 현상시간 CD

안녕하세요. 공정실습에서 노광시간, 현상시간을 각각 공정 변수로 잡고 조건을 조절해서 Positive PR 패턴 상부의 cd를 측정했습니다. 측정 결과 노광 시간 증가-> ADI CD 감소 현상 시간 증가-> ADI CD 감소 이 과정에서 target cd은 100um이고, 노광시간을 조절했을 때의 cd 편차가 더욱 크고 현상시간 조절했을 때 cd 편차는 비교적 일정했습니다. 이럴 경우 공정에 더 영향을 미치는 변수가 노광 시간이라고 판단했는데, 맞나요? 맞다면 이유에 대해 알려주시면 감사하겠습니다. 또한, 시간이 증가할수록 cd가 이상적으로 감소하는 것이 아니라 중간에 약간 증가하기도 하는 등 오차가 발생하여 전체적인 경향성이 감소하는 추세인 것이 실제 공정에서도 이정도의 오차가 발생하는지 궁금합니다. 이후 식각 공정 진행 후에도 ACI CD를 측정했는데 ADI CD보다 값이 비교적 작게 나오는 이유가 있나요?