직무 · SK하이닉스 / 공정기술

Q. Native Oxide 관련 질문

김팔콘

실제 현업 반도체 공정에서도 Si 외에 Metal layer 등에서 Native Oxide에 생긴 것을 신경쓰면서 관리하나요? 클리닝 공정에서 Metal line 등에서 발생한 Native Oxide도 클리닝을 진행하는지 궁금하며, 다음 후속 공정에 이러한 Native oxide가 영향을 크게 주는 지 궁금합니다. 예를들어 베리어 메탈인 TiN, Ti위에 SiO2를 증착할 때 반응 가스인 O2에 영향을 받아, 산화막이 형성될 것 같은데. 이거를 다 에칭하고 다음 스탭으로 넘어가는지 궁금합니다. 읽어주셔서 감사하며 명절 잘 보내시길 바랍니다.!


2025.09.29

답변 2

  • 어니언슾SK하이닉스
    코상무 ∙ 채택률 73%
    회사
    일치

    채택된 답변

    맞습니다. 특정 공정의 경우 native ox 관리를 중요하게 생각합니다. 아무래도 특정 조건에서 산화시키는 oxide보다 퀄리티도 그렇고, 두께관리도 해야하는 관점에서 cleaning이나 etch를 통해 native ox를 없애거나 제어를 해야할 때가 있습니다.

    2025.09.29


  • 프로답변러YTN
    코부사장 ∙ 채택률 85%

    멘티님, 현업 반도체 공정에서 Si뿐 아니라 Metal layer에서도 Native Oxide 형성 여부를 매우 신경 써서 관리합니다. Metal line 위에 생성된 Native Oxide 역시 후공정 접합 품질 저하, 저항 상승, 계면 불량 등에 영향을 줄 수 있어서 클리닝 및 에칭 공정으로 제거하는 것이 일반적입니다. 특히 TiN, Ti 등 베리어 메탈 위에 SiO2 증착 전에 반드시 잔존 Oxide를 제거하고 나서 후속 증착이나 패터닝을 진행합니다. 이런 Native Oxide가 공정 불량 원인이 되어 후공정에 치명적 영향을 줄 수 있기 때문에 반드시 사전 제거를 원칙으로 합니다. 채택부탁드리며 파이팅입니다!

    2025.09.29


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