Q. 반도체 공정에서 icp ms, icp oes가 사용되는 공정

답변 3

• 오

  오귀스트SK하이닉스

  코과장 ∙ 채택률 86% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  지원자님 안녕하세요 반도체공정에서 ICPMS를 주로 사용하는것 같은데, ICP EOS는 저도 검색을 해보니 전자를 여기시켰다 방출하는 에너지측정을 통해 구성원소를 분석하는 측정도구이네요 상대적으로 반도체 웨이퍼 내에 주입하는 가스의 경우 농도가 굉장히 타이트하게 관리하기에 질량측정도구인 ICPMS 를 활용하는것 같습니다. 특정공정을 구분하기보다 Wafer 내에 사용한 Gas또는 wafer를 구성하는 물질이 아닌 원소가 IC PMS에서 측정되었다면 생산장비 내부 오염원(CONTAMINATION)이 있다고 확인하는 용도로 활용하는걸로 알고있습니다. 지원자님의 성공을 기원합니다.

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• N

  NICK.KIM삼성전자

  코이사 ∙ 채택률 80% ∙

  직무

  일치

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  채택된 답변

  안녕하세요 답변드립니다. 어떤 공정에서 분석한다기 보다는, 공정 이후 오염확인시에 icp MS 로 확인해서 설비 BU 을 진행합니다.

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• 니

  니꿈은뭐니삼성전기

  코사장 ∙ 채택률 86%

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  채택된 답변

  언급된 설비는 분석기기로 질량을 분석하는 설비들입니다. 따라서 제조과정에 있는 특정 공정에서 활용되는 설비들은 아니고 말그대로 순수 분석을 위해서만 활용되는 설비라 보시면 되겠습니다.

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• AD

  

  반도체

  설계팀

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