Q. 포토공정 마스크의 defect가 critical한 이유

답변 4

• a

  ak1234SK하이닉스

  코차장 ∙ 채택률 66% ∙

  회사

  일치

  ---

  채택된 답변

  안녕하세요 멘티님 말씀하신대로 마스크에 defect이 발생할 경우, 해당 마스크를 통해 노광된 모든 wafer가 동일 부분에 defect을 가지게 되는 점이 critical한 이유 입니다. 감사합니다.

  ---
• 행

  행복주입소SK하이닉스

  코전무 ∙ 채택률 71% ∙

  회사

  일치

  ---

  채택된 답변

  안녕하세요 멘티님, 아무래도 공정도 전공정에 따라 후속공정의 DEFECT로 이어지는데 마스크에 DEFECT가 있다면 이건 후속 공정에도 계속 이어지는 DEFECT 이기 때문에 CRITICAL하다고 볼 수 있습니다. 감사합니다. 좋은 하루 되세요~!

  ---
• 니

  니꿈은뭐니삼성전기

  코사장 ∙ 채택률 86%

  ---

  채택된 답변

  언급하신데로 디펙에 의해 개별 샷마다 동일 위치에 불량이 검출된다는 점이 가장 크리티컬한 치명타입니다.

  ---
• w

  whocanstopmenow어플라이드머티어리얼즈

  코부사장 ∙ 채택률 66%

  ---

  채택된 답변

  노광 불량, 마스크 오류, alinger 문제, 표면 패턴의 성질 분석 연구, 노광 실패 이유 -> defect 존재와 결함 제거 요구 등

  ---
• AD

  

  반도체

  설계팀

  ---

  대기업 반도체 산업으로 취업하기 위해선, 직관적 해석능력과 사고력이 필요합니다. 핵심 역량과 배운 지식을 취업에 활용하고 싶다면 국비지원 강의를 추천합니다.

  확인하러 가기