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Q. SK하이닉스 기반기술 직무

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안녕하세요. SK하이닉스 기반기술 직무에서 사용하는 분석 장비가 궁금해 질문드립니다. SEM, TEM을 사용하는 것은 알고있는데 FT-IR, XPS, XRD등 다른 사용 장비들도 알고 싶습니다. 또한 어떤 목적으로 사용하는 지도 알려주시면 감사하겠습니다. 감사합니다.


2026.05.09

답변 4

  • P
    PRO액티브현대트랜시스
    코상무 ∙ 채택률 100%

    SK하이닉스 기반기술 직무에서는 공정·소재·불량 분석을 위해 다양한 분석장비를 사용합니다. 말씀하신 SEM, TEM은 단면 구조와 미세 결함 확인에 주로 사용되고, XRD는 박막 결정성이나 결정 구조 분석, 응력 측정 등에 활용됩니다. XPS는 표면 원소 조성과 화학 결합 상태 분석에 사용되어 산화 여부나 오염 분석에 많이 쓰입니다. FT-IR은 박막이나 유기물의 화학 결합 및 잔류 물질 분석에 활용됩니다. 추가로 SIMS는 불순물 농도와 깊이 방향 성분 분석, AFM은 표면 거칠기 측정, Ellipsometry는 박막 두께 측정에 자주 사용됩니다. 기반기술은 결국 공정 원인 분석과 소재 특성 평가가 핵심이라 장비 원리보다 “왜 사용하는가”를 이해하는 것이 중요합니다.

    2026.05.10


  • 합격 메이트삼성전자
    코전무 ∙ 채택률 82%

    멘티님. 안녕하세요. ​SK하이닉스 기반기술 직무에서는 박막의 물리적 성질과 화학적 조성을 분석하기 위해 XPS와 XRD 등을 단호하게 필수적으로 활용합니다. XPS는 시료 표면의 원소 구성과 화학 결합 상태를 파악하는 데 쓰이며, XRD는 박막의 결정 구조와 결정성을 단호하게 분석하여 공정 최적화의 근거를 제공합니다. ​적외선 분광법인 FT-IR은 유기 화합물의 작용기를 확인하거나 박막 내의 특정 불순물 농도를 단호하게 측정할 때 주로 사용합니다. 이러한 분석 장비들을 통해 공정 중 발생하는 이상 현상의 원인을 규명하고 차세대 반도체 소재의 신뢰성을 단호하게 검증하는 것이 기반기술 직무의 핵심 역할입니다. ​응원하겠습니다.

    2026.05.10


  • 다할수있습니다큐비앤맘
    코부장 ∙ 채택률 62%

    조금이라도 도움이 되셨다면 채택 부탁드립니다 ~~~~ 기반기술 직무에서는 불량 원인 분석과 공정 소재 특성 평가를 위해 정말 다양한 분석 장비를 사용합니다. 말씀하신 SEM TEM 외에도 많이 사용하는 장비들이 있습니다. XPS는 박막 표면의 원소 조성과 화학결합 상태 분석에 많이 쓰이고, FT IR은 유기물 오염이나 화학 결합 구조 확인에 사용됩니다. XRD는 결정 구조와 결정성 분석용으로 자주 활용됩니다. 추가로 SIMS는 불순물 농도와 depth profile 분석, EDS는 원소 성분 분석, AFM은 표면 거칠기 측정, Raman은 응력 및 물질 구조 분석에 사용됩니다. FIB는 단면 가공과 TEM 시편 제작용으로 많이 활용됩니다. 기반기술은 결국 공정 불량 원인 규명과 소재 특성 해석 역량이 핵심이라 장비 원리보다 어떤 상황에서 어떤 장비를 쓰는지 연결해서 이해하시면 면접에서 훨씬 강점이 됩니다.

    2026.05.10


  • 멘토 지니KT
    코이사 ∙ 채택률 64%

    ● 채택 부탁드립니다 ● SK하이닉스 기반기술에서는 말씀하신 SEM, TEM 외에도 다양한 재료·표면 분석 장비를 사용합니다. FT-IR은 박막이나 오염 물질의 화학 결합 상태를 확인할 때 활용되고, XPS는 표면 원소 조성과 bonding state 분석에 많이 사용됩니다. 특히 산화 상태나 contamination 분석에 자주 활용됩니다. XRD는 결정 구조와 결정성 평가에 사용되며 박막 결정화 상태, stress, phase 확인 등에 활용됩니다. 그 외에도 SIMS는 불순물 농도 프로파일 분석, AFM은 표면 거칠기 측정, Ellipsometry는 박막 두께 측정에 많이 사용됩니다. 기반기술 직무는 단순 장비 오퍼레이션보다 “왜 이런 불량이 발생했는지”를 재료·공정 관점에서 분석하는 역할에 가깝습니다. 그래서 장비 원리와 함께 어떤 데이터를 통해 공정 이상 원인을 찾는지가 중요합니다.

    2026.05.10


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