Q. 포토공정에서 발생하는 패턴 결함을 ARC를 이용한 방법 말고 다른게 있을까요?

답변 4

• 공

  공정설계현직3삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 80% ∙

  회사

  직무

  일치

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  채택된 답변

  일단 패턴이 원하는대로 형성이 안되면 공정 파라미터를 바꾸죠 보통 FOCUS 나 ET요 그리고 Defect이 있으면.. Clean을 강화하는거고.. PR 두꼐 관련된건 Spin coationg쪽에서 레시피를 바꾸면 되겠네요

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• 니

  니꿈은뭐니삼성전기

  코사장 ∙ 채택률 86%

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  채택된 답변

  패턴 결함을 개선하기 위한 법은 상당히 많아요. 대표적인게 상의 왜곡을 예측하여 해상력을 개선 시킨 opc 가 대표적입니다.

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• l

  lIIIIl삼성전자

  코사장 ∙ 채택률 79% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  EUV로 광원을 바꾸는것도 예시가 될 수 있습니다

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• m

  masteric삼성전자

  코부사장 ∙ 채택률 76% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  OAI, PSM, OPC ,double explosure 등 많습니다 구글링해서 찾아보셔도 많이나올것입니다. 패턴이 빛의 어떤결함인가에 따라서 해결책이 달라집니다ㅡ

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