커뮤니티
5,121건
삼성전자 반도체 연구소 CVD공정개발(공정기술직무)팀 희망 학생입니다.
현재 저는 PECVD 장비 설계 프로젝트를 진행하고 있구요 ! 이러한 경험을 자소서에 녹이기 위해 PECVD 설비(장비)에서 증착 공정시 Uniformity를 저해하는 원인들이 어떠한 것들이 있을지를 고민하여 프로젝트를 진행 중입니다. 그 이유는 CVD 공정개발팀에서 업무를 진행할 때 박막의 Uniformity를 잡는 것이 중요하다고 생각했고 이 때 Uniformity를 저해하는 para들이 많을 것인데 도출된 para들의 상관성을 분석하고 Uniformity를 향상시키위해 para를 어떤식으로 개선해 공정을 최적화 하는지가 중요하기 때문에 Uniformity를 저해할 수 있는 원인들에 대해 제가 알고있다면 업무를 진행함에 있어서 도움이 될 것이고 이러한 역량을 바탕으로 기여하겠다고 어필이 가능할 것이라고 생각했기 때문인데요. PECVD설비 측면에서 Uniformity를 저해하는 원인들에는 무엇이 있을까요? 꼭 설비 측면이 아니어도 좋습니다 !! 뭐든 알려주세요 !!
산포 Uniformity Non-uniformity
1. 현업에서는 산포와 uniformity를 동일하게 생각하고 사용하는지 궁금합니다. 2. uniformity의 단어 사용에 있어서 헷갈리는 점이 있습니다. uniformity라는 말이 값을 의미하는지 아니면 균일성을 의미하는지 궁금합니다. uniformity '값'이 낮으면 균일한거고 uniformity가 크면 균일한게 맞나요? 즉, uniformity 값이 낮다 = uniformity가 크다 라고 정확하게 표현해줘야 하는 건가요? 아니면 현업에서는 uniformity를 값으로 생각하고 그냥 uniformity가 작다라고 하면 균일하다라고 생각하는 건가요? 3. CMP공정에서는 Uniformity 대신 Non-uniformity로 쓰이고 의미는 동일하다고 알고 있는데 맞나요? 왜 CMP공정에서는 저렇게 쓰이는 건가요? 자소서쓰는데 너무 헷갈리네요..
반도체 공정 증착 기술에서의 Uniformity (균일도) 낮은 이유? 실제 단어 사용?
안녕하세요, 웨이퍼에 cvd로 에피성장을 해본 경험이 있는데, 균일도가 좋지 않아 문제가 되었던 경험이 있어 궁금점이 생겼습니다.. 증착 기술에서의 Uniformity(균일도)가 굉장히 중요한 파라미터인 것으로 알고 있습니다. 이게 근데 이해가 잘 안갑니다. . CVD로 증착을 한다고 치면 조절하게 되는건 가스 유량이나 챔버 온도? 가스 이동하는 line의 온도 등등이 있을 것이라고 생각합니다. 일정한 유량으로 계속해서 주입이 될텐데 웨이퍼 내의 지점별로 다른 두께의 박막이 형성된다는게 어떤 이유에서 생길 수 있는 uniformity 불균형인가요?? +) 현직자분들께서는 실 산업 내에서는 uniformity(유니포미니?) 라고 영어로 많이 사용하시는지, 한글로 균일도라는 단어를 사용하시는지 궁금합니다. 후에 관련 내용으로 면접을 진행하게 되었을 때 단어 사용을 어떤식으로 해야할지 궁금합니다 ..!
UN 직원 기타로 더 많은 콘텐츠 보러가기
AI가 현직자의 조언을 분석해서 나에게 맞는 답변을 제공해드려요.