직무 · 도쿄일렉트론코리아 / 공정설계

Q. 도쿄일렉트론 에칭 장비에 대해 여쭤볼것이 있습니다.

안녕하십니까 이번에 도쿄 일렉트론 에칭 FE에 지원하는 학생입니다.

제가 알아본 바에 따르면 에칭 장비가 텍트라스와 유티니미가 있다고 보았습니다.

택트라스는 플라즈마로 Reaction ion etching을 한다고 들었는데 유티니미는 Dry etching을 한다는 것 말고는 아는게 없습니다ㅜㅜ 혹시 어떤 원리로 작동하는 장비인지 알 수 있을까요?

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2021.08.24

답변 3
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로우닉스
코상무 ∙ 채택률 75% ∙
학교
일치

TEL 코리아 홈페이지의 Products에 가시면 장비에 대한 간략한 설명을 보실 수 있습니다.

그 이상은 회사의 중요한 기밀이기 때문에 아실 수 없을 거에요.

면접에서 TEL 장비의 원리를 안다고 해서, 모른다고 해서 이익이 되거나 불이익이 있지는 않을겁니다. 물어보지도 않을거에요.

2021.08.24

채택
하
하이닉스 고인물
코상무 ∙ 채택률 76%

모든 dry etch장비는 플라즈마를 사용합니다. 소스가 ICP인지 CCP인지는 장비마다 다르지만, 플라즈마로 인한 문제가 생긴다라는 것은 동일합니다.

장비 하나하나를 파고드는것보다 에치장비의 공통된 특징을 논하시면 좋을겁니다.

2021.08.25

텍
텍트라스맨
코대리 ∙ 채택률 63% ∙
회사 산업
일치

현재 양산현장에서는 Tactras Vigus / Tactras Vesta가 주력입니다
유니티는 상당히 옛날 장비라서, 예전 8인치팹 내지 연구소 단계에서만 쓰여요

홈페이지에도 언급되어있지만, Vesta의 경우에는 CCP로 동작하긴 합니다만, 면접에서 이런걸 물어보진 않고요
ICP와 CCP의 차이점, Plasma 형성 원리 정도면 충분할거라 생각합니다. 전 전공질문 하나도 안받았었습니다

2021.09.15

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