취업 · 모든 회사 / 공정설계

Q. 반도체 리쏘그래피 공정 중 PR Develop 문제 해결

두부12

실험중에 PR Develop 이 잘 안되는 문제가 있었습니다. spin rate를 2000에서 3000rpm으로 증가시킴으로써 PR을 균일하게 develop 할 수 있었는데요, PR 두께가 너무 두껍게 도포되어서 Develop이 안되었다고 판단하고 rpm을 증가시켜 해결했습니다. 적절한 해결방법이 맞을까요? 혹시 다른 해결방법도 있나요?


2023.03.28

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

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