Q. RF power의 세기와 etch rate의 관계
안녕하세요. 반도체 산업군 취업을 희망하는 학생입니다.
etch 공정에 대해 공부하는 중인데요,
RF power의 세기가 증가하면 생성되는 플라즈마의 양이 증가해서 etch rate가 증가하는 것까지는 이해를 하였습니다.
1. 근데 RF power의 세기가 증가하면 etch uniformity는 어떻게 되나요? power의 세기는 uniformity와 관련이 없나요?
2. uniformity에 영향을 줄 수 있는 etch parameter에는 무엇이 있는지 알려주실 수 있나요?
2. RF power의 세기가 증가할 경우 이온이 더 강하게 내리쳐서 원치 않는 막질까지 physical etch 되어 etch의 profile이 더 안 좋게 나올 수도 있을까요?
감사합니다.
Q. 중소 정규직 잔류 vs 대기업 계약직 이직
대기업 경력직으로 최근 면접보고 최종에서 떨어졌습니다.만
근데 대신 계약직으로 제안이 와서... 1년 계약직 후 종료시점에 정규직 전환 검토로 제안을 받았습니다.
현재는 50~100명 남짓한 중소기업에서 4년동안 근무하고 나이는 30입니다. 더 늦지 않을 나이에 좀더 큰 기업으로 가고 싶은 열망에 이직 준비를 했는데,, 정규직이 아닌 계약직으로 제안이 와서 고민이네요;
직무는 사무직입니다.
Q. LS일렉트릭 품질관리 vs 동국씨엠 설비관리
집에서는 동국씨엠이 가까운데 ls는 자취해야되고... 연봉은 비슷한걸로 알고있고 어디가 좋아보이나요?