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Q. pr strip 후에 패턴 사라짐현상

공정 실습중에 photo공정과 etch공정을 진행하였습니다 positive pr을 사용하였고 develop시간은 고정으로 exposure시간을 변수로 두어 시간차를 두고 진행을 했습니다. 저희는 exposure을 아주 다른 조와 비교하여 아주 짧은 시간을 진행하였고 pr strip후에 패턴이 사라진 것을 확인했습니다. 1. 짧은 exposure시간으로 인한 pr의 결합력이 충분히 약해지지 않음. 2. 1번의 이유로 인해 develop에서 pr이 전부 제거되지 않고 남아있음. 3.dry etch를 진행하였을때 film을 식각하지 못함 4.pr strip을 하였을 때 패턴이 사라짐 이렇게 방향을 잡았는데 맞는 해석인가요??