스펙 · 삼성전자 / 공정기술
반도체 공정 쪽을 희망하고 있습니다. 렛유인 반도체 공정/설비 데이터 분석(feat.Excel) 교육을 들을까 생각중인데, 시간적 여유가 있진 않아서 고민중입니다. 온라인 교육이 많이 도움이 될까요? 아니면 현재 하고 있는 것에 집중하는 것이 좋을까요?
2025.03.02
궁금증이 남았나요?
빠르게 질문하세요.
공정기술(공정개발) 과 평가및분석 부서의 차이에 대해 궁금합니다. 공정기술 목표로 잡고 1번 자소서를 작성했는데 현직자분께서 평가및분석에 적합하다고 피드백을 주셔서, 어느 직무를 타겟하고 남은 기간 취준에 집중해야할지 고민이 됩니다. 공정기술은 어떤 역량에 더 집중해야할지, 평가및분석은 어떤 역량에 집중해야할지 명확한 기준을 알고싶습니다 학점은 3.67/4.5 (다음학기 남음) 화학공학과 재학 CVD 데이터분석과정 수료 NCS 반도체 전공정 교육 수료 반도체 공정실습 2회 (MOS CAP 제작 경험O) 공정기술 직무부트캠프 수료 반도체 불량분석 직무부트캠프 수료 인턴, 학부생 경험X 여름방학 중으로 영어스피킹 IH 마련할계획입니다 취준이 너무 불황이라 내년 상반기까지도 넉넉하게 생각중이긴합니다 겨울에 hy-po도 넣어볼 계획이고, 혹시 더 필요한 활동이나 프로그램이 있으면 조언 부탁드립니다.
삼성전자 메모리사업부 공정기술 지원하려는데, 연구소 근무 경험이 있어서 XRD, BET, TEM-EDS, SEM, XRF, IC, Half cell test 등 분석 장비 사용 경험이 일부 있고, 결과 분석 경험이 있습니다. 이러한 경험이 공정기술 지원 시에도 강점이 될 수 있을까요? 실제로 현장에서 측정 또는 분석 결과를 해석해야하는 일이 있는지 궁금합니다. 저 분석 기기들 중 실제로 쓰거나 알아두면 좋은 장비가 무엇인지 알려주시면 감사하겠습니다. 현직자 분들의 답변이 궁금합니다! 좀 더 자세히 어떤 공정에서 어떻게 쓰이는지 알려주시면 정말 감사하겠습니다!
SiO2 etch를 진행할 때, Dual RF를 사용하는 Lam research 장비를 활용했습니다. 식각 가스는, C4F8(15sccm), O2 (10sccm) 이 정도만 사용했고 나머지는 Ar으로 채웠습니다. 식각 과정에서 PR 손상에 미치는 영향이 27MHz의 High-frequency RF power를 증가시켰을 때나 Pressure 증가시켰을 때 주로 증가하고 2MHz의 Low-frequency RF power를 증가시켰을 때는 거의 PR 손상량이 증가하지 않았는데 주로 PR 손상은 화학 반응을 통한 영향이 큰가요?
공정기술(공정개발) 과 평가및분석 부서의 차이에 대해 궁금합니다. 공정기술 목표로 잡고 1번 자소서를 작성했는데 현직자분께서 평가및분석에 적합하다고 피드백을 주셔서, 어느 직무를 타겟하고 남은 기간 취준에 집중해야할지 고민이 됩니다. 공정기술은 어떤 역량에 더 집중해야할지, 평가및분석은 어떤 역량에 집중해야할지 명확한 기준을 알고싶습니다 학점은 3.67/4.5 (다음학기 남음) 화학공학과 재학 CVD 데이터분석과정 수료 NCS 반도체 전공정 교육 수료 반도체 공정실습 2회 (MOS CAP 제작 경험O) 공정기술 직무부트캠프 수료 반도체 불량분석 직무부트캠프 수료 인턴, 학부생 경험X 여름방학 중으로 영어스피킹 IH 마련할계획입니다 취준이 너무 불황이라 내년 상반기까지도 넉넉하게 생각중이긴합니다 겨울에 hy-po도 넣어볼 계획이고, 혹시 더 필요한 활동이나 프로그램이 있으면 조언 부탁드립니다.
삼성전자 메모리사업부 공정기술 지원하려는데, 연구소 근무 경험이 있어서 XRD, BET, TEM-EDS, SEM, XRF, IC, Half cell test 등 분석 장비 사용 경험이 일부 있고, 결과 분석 경험이 있습니다. 이러한 경험이 공정기술 지원 시에도 강점이 될 수 있을까요? 실제로 현장에서 측정 또는 분석 결과를 해석해야하는 일이 있는지 궁금합니다. 저 분석 기기들 중 실제로 쓰거나 알아두면 좋은 장비가 무엇인지 알려주시면 감사하겠습니다. 현직자 분들의 답변이 궁금합니다! 좀 더 자세히 어떤 공정에서 어떻게 쓰이는지 알려주시면 정말 감사하겠습니다!
SiO2 etch를 진행할 때, Dual RF를 사용하는 Lam research 장비를 활용했습니다. 식각 가스는, C4F8(15sccm), O2 (10sccm) 이 정도만 사용했고 나머지는 Ar으로 채웠습니다. 식각 과정에서 PR 손상에 미치는 영향이 27MHz의 High-frequency RF power를 증가시켰을 때나 Pressure 증가시켰을 때 주로 증가하고 2MHz의 Low-frequency RF power를 증가시켰을 때는 거의 PR 손상량이 증가하지 않았는데 주로 PR 손상은 화학 반응을 통한 영향이 큰가요?
답변 12
채택된 답변저 역시 반도체 업계 종사를 위해 공부했었던 입장으로서, 수많은 반도체 관련 교육을 수강했었습니다만 과거를 되돌아보면 크게 도움이 되지 않았습니다. 그나마 장점이라면 면접 때 교육 수강 이력을 보시더니 이정도면 반도체는 다 알고 있을 것 같으니 따로 전공, 직무 관련 질문은 하지 않겠다고 했었습니다. 그리고 PT면접에서도 어느정도 도움은 되었습니다. 현재 어떠한 활동을 하고 있지 않다면 면접에서 공백기 대비, 관심도 어필 정도 수준입니다. 요즘같이 경력있는 신입을 선호하고 있는 취업시장에서 현재 하고 있는 것이 무엇인지는 잘 알지 못하지만 조금이나마 공정, 반도체와 연관이 있다면 거기에 힘을 더 쏟고 자소서에 잘 녹여내보시는 것을 추천드립니다. 만약 아직 학부생이시라면 반도체 관련 연구하시는 교수님 랩실에서 학부 인턴으로 경험을 쌓는 것을 추천드립니다. 꼭 취업 성공하시길 바랍니다 :)
