직무 · 삼성전자 / 공정기술
UV/vis, IR, 형광광도계, GC, GC-MS, 순환전압전류법, 전기전도도법, HPLC, AES, AAS 등 실험수업에서 다뤄봤는데, 이런기기들이 반도체 공정기술 (하이닉스 양산기술, 삼전 공정기술) 직무에서 쓰이나요? 혹은 저 기기들로 측정한 스펙트럼들을 분석할 일이 있는지 궁금해요!
2024.09.22
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이번 하반기에 삼성 메공기 서탈, 하닉 양기 면탈했습니다. 다음 상반기 지원을 위해 어떤 스펙을 쌓아야할지 고민돼서 질문드립니다. 서성한 신소재공학과 학점 3.8/4.5 오픽 IH SK청년 hypo 수료(반도체 온라인 교육) 반도체 학술 동아리 1년 반도체 공정 조건 최적화 연구 경험 렛유인에서 하는 데이터분석 교육이나 adsp 공부하려고 생각 중인데 혹시 또 할만한 활동이 있을까요? 감사합니다.
SiO2 etch를 위해 Gas 구성을 할 때, CxFy, O2, Ar, N2 이렇게 구성해서 Etch를 진행하려고 합니다. 1. O2는 CxFy의 Carbon passivation을 조절하는 역할을 하면서 Etch profile에 주로 영향을 미치고 E/R은 부가적으로만 영향을 미치는 건가요? 아니면 F radical 형성을 더 도우면서 E/R에도 크게 영향을 미치나요? 2. N2가 Oxide etch에서 실질적으로 하는 역할이 궁금합니다. 세운 가설로는 1) NF3 형성으로 F radical 소모해서 => E/R 감소 2) N2가 sidewall passivation으로 Anisotropic 요소 증가 3) N2의 Plasma 안정화 4) N2의 이온화 후 Ion bombardment로 Anisotropic 요소 증가 이 중에 뭐가 실질적으로 작용할까요? 이런 효과를 위해서 현업에서 N2를 넣나요? 공정기술 직무에서 레시피 tuning하는 방식이 궁금합니다.
안녕하세요! 졸업까지 3학점밖에 남지 않아서, 이번년도 하반기부터 서류를 넣어보려고 하는 취준생입니다. 현재 대학원은 생각이 없으며, 반도체 공정기술 직무를 희망하고 있습니다. 삼성전자 뿐 아니라 반도체 관련 대기업을 목표로 하고 있기 때문에 스펙상 모자란 점과 보완해야 할 점에 대해 조언을 듣고 싶습니다. 학교 : 인서울 응용화학부 나노소재전공 전체 학점 : 4.0/4.5 전공 학점 : 3.95/4.5 어학 : 토스 IH 자격증 : 6-sigma GB (+8월에 ADsP 응시예정) 1. 삼성사이닝스타 수료 2. Co-week academic 반도체 위주 수업 수강 3. 분광학 연구실 학부연구생 (1년동안 연구실 과제에 참여 및 인공지능 모델을 만들어 경진대회 참여, 수상X) 4. 반도체&디스플레이 연구실 학부연구생 (클린룸에서 반도체 공정실습 및 ICP 공정 레시피 개선 프로젝트 참여) 5. 반도체 공정 실습 & 산단장비 실습 수업 수강
이번 하반기에 삼성 메공기 서탈, 하닉 양기 면탈했습니다. 다음 상반기 지원을 위해 어떤 스펙을 쌓아야할지 고민돼서 질문드립니다. 서성한 신소재공학과 학점 3.8/4.5 오픽 IH SK청년 hypo 수료(반도체 온라인 교육) 반도체 학술 동아리 1년 반도체 공정 조건 최적화 연구 경험 렛유인에서 하는 데이터분석 교육이나 adsp 공부하려고 생각 중인데 혹시 또 할만한 활동이 있을까요? 감사합니다.
SiO2 etch를 위해 Gas 구성을 할 때, CxFy, O2, Ar, N2 이렇게 구성해서 Etch를 진행하려고 합니다. 1. O2는 CxFy의 Carbon passivation을 조절하는 역할을 하면서 Etch profile에 주로 영향을 미치고 E/R은 부가적으로만 영향을 미치는 건가요? 아니면 F radical 형성을 더 도우면서 E/R에도 크게 영향을 미치나요? 2. N2가 Oxide etch에서 실질적으로 하는 역할이 궁금합니다. 세운 가설로는 1) NF3 형성으로 F radical 소모해서 => E/R 감소 2) N2가 sidewall passivation으로 Anisotropic 요소 증가 3) N2의 Plasma 안정화 4) N2의 이온화 후 Ion bombardment로 Anisotropic 요소 증가 이 중에 뭐가 실질적으로 작용할까요? 이런 효과를 위해서 현업에서 N2를 넣나요? 공정기술 직무에서 레시피 tuning하는 방식이 궁금합니다.
안녕하세요! 졸업까지 3학점밖에 남지 않아서, 이번년도 하반기부터 서류를 넣어보려고 하는 취준생입니다. 현재 대학원은 생각이 없으며, 반도체 공정기술 직무를 희망하고 있습니다. 삼성전자 뿐 아니라 반도체 관련 대기업을 목표로 하고 있기 때문에 스펙상 모자란 점과 보완해야 할 점에 대해 조언을 듣고 싶습니다. 학교 : 인서울 응용화학부 나노소재전공 전체 학점 : 4.0/4.5 전공 학점 : 3.95/4.5 어학 : 토스 IH 자격증 : 6-sigma GB (+8월에 ADsP 응시예정) 1. 삼성사이닝스타 수료 2. Co-week academic 반도체 위주 수업 수강 3. 분광학 연구실 학부연구생 (1년동안 연구실 과제에 참여 및 인공지능 모델을 만들어 경진대회 참여, 수상X) 4. 반도체&디스플레이 연구실 학부연구생 (클린룸에서 반도체 공정실습 및 ICP 공정 레시피 개선 프로젝트 참여) 5. 반도체 공정 실습 & 산단장비 실습 수업 수강
답변 5
반도체 공정에서 사용되는 분석기기는 다양한데요~! 지원자님이 언급해주신 기기들 중 몇몇은 반도체 공정에서는 조금 덜 사용되거나 연구 개발 단계에서 많이 활용됩니다. 예를 들어, IR(적외선 분광법)이나 UV/vis 같은 광학 분석법은 반도체 재료의 특성을 분석하는 데 활용될 수 있어요. 하지만 공정기술에서 양산 단계에서는 주로 SEM(주사전자현미경), TEM(투과전자현미경), XPS(광전자분광법), SIMS(이차 이온 질량분석법) 같은 표면, 화학적 성분 및 미세 구조 분석 장비들이 더 빈번하게 사용됩니다~! AES(광전자 분광법), AAS(원자 흡수 분광법) 같은 기술은 금속 성분 분석에 활용되긴 하지만, 양산 단계에서는 특정 목적을 위해 제한적으로 사용될 수 있어요. HPLC, GC, GC-MS 같은 장비들은 주로 화학 물질 분석에 사용되는데, 반도체 공정에서는 화학적 오염을 분석하거나, 화학 물질을 사용하는 공정에서 그 물질의 순도나 특성을 확인하는 데에 가끔 쓰일 수는 있지만 자주 사용되지는 않아요~! 따라서 지원자님이 익숙한 기기들로 분석한 스펙트럼을 직접적으로 다루는 일은 공정기술 직무에서 많이 발생하지 않을 수 있어요. 대신 반도체 공정에서는 표면 특성, 미세 구조, 결함 분석 등의 데이터가 더 중요하게 다루어진답니다~! 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!
보통 일반적으로 sem , tem ft-ir스펙트럼분석, nm tip과 같은 것을 사용합니다. 질문자분께서 다양한 분석기기를 다뤄보셨는데 전기전도도 와 같은것도 사용되긴하나 실제로 입사하시면 해당 기기들 모두 사용하긴 힘듭니다. 그리고 꼭 현업과 맞출필요없습니다. 학사는 잠재력과 역량을 보기에 해당 기기를 사용했다를 넘어서서 왜 했고 어떤 결과를 가져왔고 현업기기기분석에 어떻게 도움될 것이고 이런것들 어필하심 좋습니다. 직무는 반도체 공정기술 또는 제조기술 평분(기기분석관련) 추천합니다!
